摩爾定律能否持續(xù)走下去,主要關(guān)鍵在于微影技術(shù)難度愈來愈高。目前包括英特爾、臺(tái)積電、三星等大廠,主要采用多重曝光(multi-patterning)的浸潤(rùn)式微影(immersionlithography)技術(shù),但當(dāng)制程技術(shù)走到10奈米世代時(shí),高密度的邏輯IC需要進(jìn)行至少4次的曝光制程,制造成本自然大幅拉高。
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