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Micro LED顯示芯片的巨量轉(zhuǎn)移工藝：精度控制與缺陷檢測方法
Micro LED作為下一代顯示技術(shù)的核心方向，憑借高亮度、高對比度、低功耗等優(yōu)勢，成為AR/VR、柔性穿戴等高端場景的理想選擇。然而，其產(chǎn)業(yè)化進程面臨兩大核心挑戰(zhàn)：巨量轉(zhuǎn)移的精度控制與缺陷檢測的可靠性。本文從技術(shù)原理、工藝創(chuàng)新及檢測方案三個維度，解析Micro LED制造中的關鍵突破。
Micro LED作為下一代顯示技術(shù)的核心方向，憑借高亮度、高對比度、低功耗等優(yōu)勢，成為AR/VR、柔性穿戴等高端場景的理想選擇。然而，其產(chǎn)業(yè)化進程面臨兩大核心挑戰(zhàn)：巨量轉(zhuǎn)移的精度控制與缺陷檢測的可靠性。本文從技術(shù)原理、工藝創(chuàng)新及檢測方案三個維度，解析Micro LED制造中的關鍵突破。
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