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沉積設備

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國產(chǎn)12英寸氮化硅沉積設備進入中國IC制造龍頭企業(yè)

北方華創(chuàng)宣布，2020年4月7日，北方華創(chuàng)THEORIS SN302D型12英寸氮化硅沉積設備搬入( Move in)國內(nèi)集成電路制造龍頭企業(yè)。該設備的交付，意味著國產(chǎn)立式LPCVD設備在先進集成電路制造領(lǐng)域的應用拓展上實現(xiàn)重大進展。

充電吧
2020-04-21

ic制造氮化硅沉積設備