作為全球先進(jìn)的芯片制造商臺積電,在硅基芯片的研發(fā)上已經(jīng)突破到了5nm工藝,并且正在向2nm工藝進(jìn)發(fā),但2nm之后硅基芯片的工藝似乎遇到了瓶頸。當(dāng)前國際與我國市場上普遍使用的都是硅基芯片,也就是利用硅晶片為原材料制造而成的芯片。這一芯片的制造是需要依賴于光刻機完成光刻這一程序的,然而如今我國另辟蹊徑探索碳基芯片的研制,能夠繞開光刻機這一需要長時間努力的領(lǐng)域,為我國芯片性能的提升開辟另一條道路,
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