在現(xiàn)代電力電子領(lǐng)域,碳化硅(SiC)MOSFET 憑借其卓越的性能,如高開關(guān)速度、低導通電阻、高耐壓能力等,正逐漸成為眾多應用的首選功率器件。然而,正是由于這些獨特的性能特點,使得碳化硅 MOSFET 在實際應用中面臨著一些特殊的挑戰(zhàn),其中米勒效應帶來的影響尤為突出,這也使得米勒鉗位對于碳化硅 MOSFET 顯得特別重要。
在半導體技術(shù)的廣闊領(lǐng)域中,MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)管作為集成電路中的核心元件,其性能的穩(wěn)定性和效率直接關(guān)系到整個電路系統(tǒng)的表現(xiàn)。而MOS管的一個獨特現(xiàn)象——米勒效應(Miller Effect),更是引起了工程師們的廣泛關(guān)注和研究。本文將深入探討MOS管的米勒效應,解析其產(chǎn)生機制、影響以及在實際應用中的應對策略。
由于米勒電容阻止了Vgs的上升,從而也就阻止了Vds的下降,這樣就會使損耗的時間加長。(Vgs上升,則導通電阻下降,從而Vds下降)。