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三星推出新工藝，7nm工藝將上EUV極紫外光刻
Intel雖然一再?gòu)?qiáng)調(diào)自己的xxnm工藝才是最精確的，比如同樣標(biāo)稱(chēng)10nm，自己要比三星、臺(tái)積電的領(lǐng)先整整一代，但是沒(méi)辦法，人家的腳步要快得多。今天，三星電子又宣布了新的11nm FinFET制造工藝“11LPP”(Low Power Plus)，并確認(rèn)未來(lái)7nm工藝將上EUV極紫外光刻。
Intel雖然一再?gòu)?qiáng)調(diào)自己的xxnm工藝才是最精確的，比如同樣標(biāo)稱(chēng)10nm，自己要比三星、臺(tái)積電的領(lǐng)先整整一代，但是沒(méi)辦法，人家的腳步要快得多。今天，三星電子又宣布了新的11nm FinFET制造工藝“11LPP”(Low Power Plus)，并確認(rèn)未來(lái)7nm工藝將上EUV極紫外光刻。
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