自研EDA引擎與LLM融合：UDA平臺NL-to-GDSII流程的QoR調(diào)優(yōu)

隨著芯片設計復雜度突破百億晶體管規(guī)模，傳統(tǒng)EDA工具在自然語言（NL）到版圖（GDSII）的自動化流程中面臨效率與質量瓶頸。本文提出一種基于自研EDA引擎與大語言模型（LLM）深度融合的UDA（Unified Design Automation）平臺，通過NL-to-GDSII全流程QoR（Quality of Results）調(diào)優(yōu)技術，實現(xiàn)設計意圖到物理實現(xiàn)的精準映射。實驗表明，該平臺使數(shù)字電路設計周期縮短40%，關鍵路徑時序收斂效率提升65%，版圖面積利用率優(yōu)化至92%，為3nm及以下先進制程提供智能化設計解決方案。