第三代半導體材料又稱寬禁帶半導體材料,主要包括碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)等。與第一、二代半導體材料相比,第三代半導體材料擁有高禁帶寬度、高飽和電子漂移速度、高熱導率、導通阻抗小、體積小等優(yōu)勢,特別適用于5G射頻和高壓功率器件。
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