光刻機是芯片生產(chǎn)制造的必要設(shè)備,目前,最先進的光刻機技術(shù)掌握在ASML手中。數(shù)據(jù)顯示,ASML研發(fā)生產(chǎn)的DUV光刻機,能夠生產(chǎn)7nm以上的芯片,而EUV光刻機則能夠生產(chǎn)制造7nm以下的芯片,兩款光刻機幾乎占領(lǐng)了中高端市場。
STM32WBA6系列新品來襲,釋放Matter低功耗藍牙應(yīng)用潛能
單片機PID控制算法-基礎(chǔ)篇
野火F103開發(fā)板-MINI教學(xué)視頻(中級篇)
Altium Designer16 快速入門教程
H5進階-PS設(shè)計
內(nèi)容不相關(guān) 內(nèi)容錯誤 其它
本站介紹 | 申請友情鏈接 | 歡迎投稿 | 隱私聲明 | 廣告業(yè)務(wù) | 網(wǎng)站地圖 | 聯(lián)系我們 | 誠聘英才
ICP許可證號:京ICP證070360號 21ic電子網(wǎng) 2000- 版權(quán)所有 用戶舉報窗口( 郵箱:macysun@21ic.com )
京公網(wǎng)安備 11010802024343號