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Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛(wèi)摩爾定律
日前，中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會（CSTIC）在上海開幕，為期19天，本次會議重點是探討先進(jìn)制造和封裝。 其中，光刻機(jī)一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一
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共話“新計算時代”的機(jī)遇與挑戰(zhàn)，應(yīng)用材料公司亮相SEMICON China 2020
2020年6月22日，上?！猄EMICON China 2020將于6月27—29日在上海新國際博覽中心舉辦。
