1 AIGaN/GaN HEMT研制
采用國產(chǎn)半絕緣6H-SiC襯底利用MOCVD外延GaN HEMT外延材料,采用離子注入工藝進行有源區(qū)隔離,源漏金屬采用Ti/Al/Ni/Au系統(tǒng),柵金屬為Ni/Au,研制的單胞總柵寬為2.5 mm的AIGaN/GaN HEMT,工作電壓達到40.5 V,X波段連續(xù)波輸出功率達到20 W,線性增益大于10 dB,ηPAE大于40%,輸出功率特性曲線如圖1所示。
2 GaN MMIC設(shè)計與研制
2.1 AIGaN/GaN HFET大信號模型的建立
精確的非線性器件模型是功率放大器單片設(shè)計的關(guān)鍵。目前有關(guān)AIGaN/GaN HEMT的建模技術(shù)并不成熟,無專業(yè)的商業(yè)軟件用于建模。本文在借鑒GaAs功率器件建模的基礎(chǔ)上采用改進的Materka模型,其基本結(jié)構(gòu)如圖2所示。利用分步提取參數(shù)的方法,對l mnl AIGaN/GaN HEMT進行非線性模型的建模,參數(shù)提取包括5步:(1)從脈沖柵電流測量數(shù)據(jù)中提取柵電流參數(shù)和內(nèi)建勢;(2)從改進的Cold FETS參數(shù)測量數(shù)據(jù)中提取寄生參數(shù),包括源、漏、柵電阻和電感;(3)從脈沖漏源電流測量數(shù)據(jù)中提取漏源電流參數(shù);(4)從工作偏置狀態(tài)S參數(shù)測量數(shù)據(jù)中提取本征模型參數(shù);(5)提取柵電容模型參數(shù)。建立的1 mm器件大信號模型參數(shù),如圖3所示,其中實線為測試數(shù)據(jù),虛線為仿真數(shù)據(jù)。圖3表明,模型仿真結(jié)果與測試結(jié)果吻合得較好,能真實地反映器件的特性。
2.2 GaN MMIC電路設(shè)計
選擇兩級放大的匹配電路結(jié)構(gòu),第一級輸入匹配為50 Ω,使用兩個總柵寬為lmm的器件。為了提高輸出功率,同時減小電路的總面積,第二級采用一個總柵寬為4 mm的器件,信號分別經(jīng)過功率分配和功率合成后匹配到50Ω輸出。為了滿足信號幅值和相位的對稱性要求,第二級管芯柵、漏壓點嚴格按照對稱性進行設(shè)計。
將器件的大信號模型內(nèi)嵌到ADS軟件環(huán)境中,利用ADS系統(tǒng)提供的無源元件進行GaN MMIC結(jié)構(gòu)設(shè)計和優(yōu)化,其拓撲結(jié)構(gòu)如圖4所示。在電路設(shè)計中,針對電路的性能指標對電阻、電容、電感等匹配元件進行優(yōu)化,改善帶寬特性和帶內(nèi)平坦度。分別進行小信號和大信號優(yōu)化,以改善電路的功率特性。在輸入、輸出端適當增加匹配元件(電容、電感),保證帶內(nèi)電路的輸入、輸出駐波比。在電路設(shè)計注意考慮包括微波測試時的偏置電路以保證測試與設(shè)計的對應(yīng)一致性。在電路優(yōu)化中,重點優(yōu)化電路的輸出功率特性。
2.3 GaN MMIC電路研制
版圖設(shè)計中主要考慮版圖的布局及工藝的兼容性,微帶線間的距離宜大于兩倍基片的厚度,以減小傳輸線間的耦合。在盡量縮小芯片面積的同時要充分考慮到無源元件之間、無源元件與有源器件之間的互干擾效應(yīng),同時對設(shè)計的版圖進行仿真分析。版圖驗證采用版圖與原理圖對應(yīng)、DRC和局部的電磁場分析來提高電路設(shè)計的精度。在工藝設(shè)計上,考慮設(shè)計采用的元器件模型并不成熟,為了簡化器件研制工藝,電阻采用體電阻形式,同時將歐姆接觸引起的電阻加到總的電阻中。有源器件通過注入隔離,為防止SiN針孔引起擊穿,200 nmSiN分兩次淀積完成,襯底減薄到100 μm,器件全部工藝完成后,得到的MMIC照片如圖5所示。
3 GaN MMIC測試與分析
GaN MMIC芯片燒結(jié)在銅載體上,進行微波功率測試。確定偏置條件為:VDS=20V,VGS=一3.6 V,在8.5~10.5 GHz頻率測試連續(xù)波輸出特性,其測試的微波輸出功率特性曲線如圖6所示,頻率為9.1~10.1 GHz,輸出功率大于40 dBm,增益大于12 dB,JPAE大于30%,增益平坦度±0.2 dB,最大輸出功率為11.04 W。
4 結(jié)論
本文采用國內(nèi)研制的6H-SiC襯底,自主研制高輸出功率GaN MMIC。采用GaAs功率器件的Materka模型提取的A1GaN/GaN HEMT大信號建模,應(yīng)用到GaN MMIC的設(shè)計中,得到較好的研究結(jié)果。利用混合套刻工藝研制出電路芯片,連續(xù)波在9.1~10.1 GHz內(nèi),輸出功率大于lO W,首次研制出國產(chǎn)6H-SiC襯底的x波段GaN MMIC,其輸出功率達到國內(nèi)領(lǐng)先水平。
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