利用Cadence PCB SI分析特性阻抗變化因素
1、概要
在進(jìn)行PCB SI的設(shè)計(jì)時(shí),理解特性阻抗是非常重要的。這次,我們對(duì)特性阻抗進(jìn)行基礎(chǔ)說(shuō)明之外,還說(shuō)明Allegro的阻抗計(jì)算原理以及各參數(shù)和阻抗的關(guān)系。
2、什么是特性阻抗?
2.1 傳送線路的電路特性
在高頻率(MHz)信號(hào)中,把傳送回路作為電路。
2.1.1 電阻R
電阻R是指普通的導(dǎo)線帶有的歐姆電阻。R = ρ・L / S [Ω] (S:橫截面面積[m2],L:導(dǎo)體長(zhǎng)[m],ρ:金屬(銅)的電阻率[Ω*m])。在高頻頻域范圍內(nèi)的話,根據(jù)表面效果和集合效果的影響,集中在導(dǎo)體表面電流流動(dòng),會(huì)使上面公式中的阻值變得更大。
2.1.2 電容C
電容C是指積蓄在導(dǎo)體間電荷的量。C = ε(S / d)[F]?。é?介電常數(shù),S:導(dǎo)體的橫截面積,d:導(dǎo)體間的距離)
2.1.3 電感L
電流流動(dòng)的導(dǎo)線必定有磁通量發(fā)生,根據(jù)這個(gè)產(chǎn)生的自感。L=0.002S[2.3lg(2s/w+t)+0.5][μH] S:導(dǎo)線長(zhǎng)度(cm) ,W:導(dǎo)線寬度(cm), t:導(dǎo)線厚度(cm)
2.1.4 電導(dǎo)G
物體傳導(dǎo)電流的本領(lǐng)叫做電導(dǎo)。對(duì)導(dǎo)體間的介電特性的反抗成分,表示容易電流的程度。G = 1 / R
2.2 阻抗和特性阻抗的不同?
阻抗
表示電路部分對(duì)交變電信號(hào)流通產(chǎn)生的阻力,是傳輸線上輸入電壓對(duì)輸入電流的比率值Z = V(x)/ I(x)
特性阻抗
特征阻抗是指信號(hào)沿傳輸線傳播時(shí),信號(hào)看到的瞬間阻抗的值。簡(jiǎn)單地講,無(wú)限長(zhǎng)傳輸線上各處的電壓與電流的比值定義為傳輸線的特性阻抗。Z0 = √( (R + jωL) / (G + jωC) ) ≒ √(L / C)(R<<ωL,G<<ωC)
3、Allegro的特性阻抗計(jì)算原理
3.1 在Layout Cross Section中阻抗計(jì)算
PCB SI菜單的Setup >Cross-section
<單線的特性阻抗計(jì)算方法>
1.設(shè)定層結(jié)構(gòu)和材料物質(zhì)。
2.Width欄輸入線寬的話,在Impedance欄會(huì)計(jì)算出特性阻抗。(Impedance輸入目標(biāo)阻抗的話,則會(huì)計(jì)算線寬。)
<差分阻抗>
1.勾選Differential Mode
2.設(shè)定層結(jié)構(gòu)和材料物質(zhì)。
3.Coupling Type設(shè)定結(jié)合類型。(NONE: 不耦合,EDGE:同層耦合,BROADSIDE:鄰接層耦合)
4.因?yàn)樵O(shè)定線寬的話,確定差分阻抗或者spacing任何一個(gè),選擇Spacing單擊OK按鈕,差分阻抗被計(jì)算。
(如果想指定差分阻抗的,設(shè)定DiffZ0,調(diào)節(jié)線寬和spacing。)
― 參考1 ―
層結(jié)構(gòu)計(jì)算過(guò)阻抗之后,可以通過(guò)PCB Editor菜單的File >Export >Techfile技術(shù)文件進(jìn)行保存,再利用。根據(jù)這個(gè),可以通過(guò)程序庫(kù)管理本公司阻抗設(shè)計(jì)的經(jīng)驗(yàn)技術(shù)。
3.2 在Electrical Constraints中計(jì)算阻抗
PCB Editor菜單的Setup >Constraint單擊Electrical constraint sets按鈕,選擇DiffPair Valuetab,并且單擊Calculator按鈕。
能用上述方法計(jì)算差動(dòng)阻抗時(shí),層結(jié)構(gòu)Layout Cross Section是已經(jīng)設(shè)定,不能修改的。
3.3 在View Trace Model Parameters中計(jì)算阻抗
SigXplorer菜單的Edit >Add Part,Model Type Filter選擇Interconnect,選擇想使用的傳送線路模型,界面配置。
1.以SigXplorer畫(huà)面的參數(shù)界面,設(shè)定層構(gòu)成和材料屬性,線寬和線距。
2.以SigXplorer畫(huà)面的參數(shù)界面,在對(duì)象模型的地方進(jìn)行單擊右鍵,選擇View Trace Parameters。
3.在View Trace Model Parameters界面內(nèi),F(xiàn)ield Solution Results內(nèi)Field solver cutoff frequency設(shè)定10GHz,Matrix設(shè)定Impedance,特性阻抗以矩陣形式被表示。(如果想使之表示差分阻抗的情況, Matrix設(shè)定Diff Impedance。)
― 參考2 ―
如果在范圍內(nèi)設(shè)定了分步或復(fù)數(shù)的價(jià)值,View Trace Model Parameters的Parameter Values會(huì)以列表的方式列出所有的數(shù)據(jù)。
― 參考3 ―
Field Solution Results欄,能表示以下的結(jié)果。
· Capacitance
· Die. Conductance
· Inductance
· Linear Resistance
· Modal Velocity
· Admittance
· Impedance
· Diff Impedance
· Near-End Coupling
· Modal Delay
在Capacitance/ Die. Conductance/ Inductance/ Linear Resistance中,能夠設(shè)定頻率。
4、各參數(shù)和特性阻抗Z0的關(guān)系
本項(xiàng),使用「在3.3 View Trace Model Parameters的阻抗計(jì)算」介紹的功能,確認(rèn)各參數(shù)和特性阻抗Z0的關(guān)系。
4.1 計(jì)算單線的特性阻抗Z0
Z0和各參數(shù)的關(guān)系如下圖,研究只變化一個(gè)參數(shù)的時(shí)候,特性阻抗Z0的變化。
4.1.1 用圖表表示在線寬W和讓特性阻抗Z0的關(guān)系
線寬W在0.13~0.23mm范圍內(nèi),以0.01mm間隔變化了11點(diǎn)的時(shí)候,特性阻抗Z0的變化。
從這個(gè)圖表可以看出,線寬W變大,特性阻抗變小。線寬W變大的話,導(dǎo)體與參考面之間的電容C和導(dǎo)體的電感L也變大,不過(guò),對(duì)特性阻抗Z0的影響是因?yàn)殡娙軨變大。默認(rèn)的電容C和電感L的價(jià)值?!鸽娙軨 =110.2pF, 電感L=286nH」
4.1.2 用圖表表示介電質(zhì)的厚度D1和特性阻抗Z0的關(guān)系
介電質(zhì)厚度D1在0.05~0.15mm范圍內(nèi),以0.01mm間隔使之變化了11點(diǎn)的時(shí)候,特性阻抗Z0的變化。
從這個(gè)圖表可以看出,介電質(zhì)厚度D1變大,特性阻抗Z0變大。因?yàn)閰⒖济媾c導(dǎo)體的距離變大,導(dǎo)體和參考面間的電容C變小。
4.1.3 用圖表表示讓導(dǎo)線的厚度T和跟特性阻抗Z0的關(guān)系
導(dǎo)線的厚度T在0.03~0.04mm范圍內(nèi),以0.001mm間隔變化了11點(diǎn)的時(shí)候,特性阻抗Z0的變化。
從這個(gè)圖表可以看出,導(dǎo)線的厚度T變大,特性阻抗Z0一點(diǎn)點(diǎn)變小。導(dǎo)線的厚度T變大的話,與導(dǎo)體間的電容C和導(dǎo)體的電感L也變大,不過(guò),對(duì)特性阻抗Z0的影響因?yàn)槭请娙軨變大。
4.1.4 用圖表表示跟介電常數(shù)ε1和特性阻抗Z0的關(guān)系
介電常數(shù)ε1在3.5~4.5范圍內(nèi),以0.1間隔變化了11點(diǎn)的時(shí)候,特性阻抗Z0的變化。
從這個(gè)圖表可以看出,介電常數(shù)ε1變大,特性阻抗Z0變小。因?yàn)榻殡姵?shù)ε1變大,導(dǎo)體和參考面間的電容C變大。
4.1.5 用圖表表示介電常數(shù)ε2和特性阻抗Z0的關(guān)系
介電常數(shù)ε2在1~5范圍內(nèi),以0.5間隔變化了11點(diǎn)的時(shí)候,特性阻抗Z0的變化。
從這個(gè)圖表可以看出,介電常數(shù)ε2變大,特性阻抗Z0變小。因?yàn)榻殡姵?shù)ε2變大,導(dǎo)體和參考面間的電容C變大。
4.2 差分阻抗和各參數(shù)的關(guān)系
下圖作為標(biāo)準(zhǔn)的層構(gòu)成的時(shí)候,計(jì)算只做一個(gè)參數(shù)變化的時(shí)候,差分阻抗的變化。
4.2.1 線間距S和差動(dòng)阻抗Zdiff的關(guān)系
線間距S在0.12~0.22mm范圍內(nèi),以0.01mm間隔變化了11點(diǎn)的時(shí)候,差分阻抗Zdiff的變化。
從這個(gè)圖表可以,線間距S變大,差分阻抗Zdiff變大。因?yàn)榫€間距S變大,差分線路間的電容C變小。
4.2.2、導(dǎo)線的厚度T和跟差分阻抗Zdiff的關(guān)系
導(dǎo)線的厚度T在0.03~0.04mm范圍內(nèi),以0.001mm間隔變化了11點(diǎn)的時(shí)候,差分阻抗Zdiff的變化。
從這個(gè)圖表可以看出,導(dǎo)線的厚度T變大,差分阻抗Zdiff變小。導(dǎo)線的厚度T變大,導(dǎo)體與參考面間和差分線路間的電容C及導(dǎo)體的電感L也變大,對(duì)差分阻抗Zdiff的影響是因?yàn)槭菍?dǎo)體和參考面間和差分線路間的電容C變大。同時(shí),與單線比的話,差分線路間產(chǎn)生的電容,也使差分阻抗Zdiff也變大。
4.2.3 介電常數(shù)ε2和差分阻抗Zdiff的關(guān)系
介電常數(shù)ε2在1~5范圍內(nèi),以0.5間隔使之變化了11點(diǎn)的時(shí)候,差分阻抗Zdiff的變化。
從這個(gè)圖表可以看出,介電常數(shù)ε2變大,差分阻抗Zdiff變小。因?yàn)榻殡姵?shù)ε2變大,導(dǎo)體與參考面間和差分線路間的電容C變大。同時(shí),與單線比的話,差分線路間上產(chǎn)生的電容,也使差分阻抗Zdiff變大。