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大日本網(wǎng)屏開發(fā)成功VOC排放量為零的300mm晶圓清洗裝置

時間：2008-11-25 10:04:34

關(guān)鍵字：晶圓 IP

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[導(dǎo)讀]大日本網(wǎng)屏開發(fā)成功了不使用溶劑而使用干燥空氣的300mm晶圓清洗裝置用干燥模塊。此前晶圓的干燥工序使用的是IPA（異丙醇，(CH3)2CHOH），而此次采用了向清洗后的晶圓吹送干燥空氣進行干燥的新技術(shù)。IPA是大氣污染法禁

大日本網(wǎng)屏開發(fā)成功了不使用溶劑而使用干燥空氣的300mm晶圓清洗裝置用干燥模塊。此前晶圓的干燥工序使用的是IPA（異丙醇，(CH3)2CHOH），而此次采用了向清洗后的晶圓吹送干燥空氣進行干燥的新技術(shù)。IPA是大氣污染法禁止使用的VOC（揮發(fā)性有機化合物）的一種。由于不使用IPA，因此可以減小環(huán)境污染。

新模塊使用的干燥空氣的露點非常低，即使到-70℃也不會結(jié)露，因此清洗后的水分可以在很短的時間內(nèi)清除。處理時間與使用IPA相比，大約只有1／2。

由于不使用IPA，還可以大幅降低運用成本。在使用原來的模塊時，每臺裝置每年大約要使用1萬6206升IPA。這一費用每年可以削減約900萬日元，據(jù)大日本網(wǎng)屏推算，每年的運用成本最多可以縮減至原來的1／8。

此次的模塊已開始在該公司2005年上市的批量式清洗裝置“FC-3100”中嵌入銷售，模塊單體價格沒有公布。嵌入新模塊的裝置與采用原模塊的裝置相比，“價格多少要高一些”（該公司公關(guān)室）。FC-3100的售價為3億～4億日元（因規(guī)格而異）。采用原模塊的機型與采用新模塊的機型均在這一價格范圍內(nèi)。采用新模塊的FC-3100將從2008年12月開始銷售。

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