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[導(dǎo)讀]王怡蘋/新竹 智慧型手機(jī)引領(lǐng)市場潮流,低功耗、低成本成為IC設(shè)計重點(diǎn),半導(dǎo)體材料的進(jìn)化也成為趨勢,絕緣層上覆矽(SOI)晶圓供應(yīng)商Soitec則針對28以至11奈米先進(jìn)制程,發(fā)展全耗盡(FD)技術(shù)的SOI晶圓,可降低IC功耗、并

王怡蘋/新竹 智慧型手機(jī)引領(lǐng)市場潮流,低功耗、低成本成為IC設(shè)計重點(diǎn),半導(dǎo)體材料的進(jìn)化也成為趨勢,絕緣層上覆矽(SOI)晶圓供應(yīng)商Soitec則針對28以至11奈米先進(jìn)制程,發(fā)展全耗盡(FD)技術(shù)的SOI晶圓,可降低IC功耗、并節(jié)省后續(xù)晶圓制程;Soitec也將尋求更多技術(shù)合作伙伴,以拓展整體SOI晶圓的市場,目標(biāo)為讓FD SOI晶圓成為市場主流。

Soitec企業(yè)行銷戰(zhàn)略部高級副總裁王碩仁表示,隨著主導(dǎo)市場的電子產(chǎn)品改變,對于IC的需求也截然不同,過去主導(dǎo)市場潮流的是PC,高效能(high performance)受到重視,對功耗則較少著墨,但今天主導(dǎo)市場的是智慧型手機(jī)(Smartphone),受到電池限制,在效能之外,節(jié)能、低功耗(low power)和低成本(low cost)更為重要,因此各IC設(shè)計公司在設(shè)計IC時也越來越重視低功耗及低成本等特性,當(dāng)整個市場跟隨此趨勢,作為半導(dǎo)體材料的矽晶圓,也可因應(yīng)此需求做出進(jìn)化。

Soitec為全球最大半導(dǎo)體用SOI晶圓供應(yīng)商,即在晶圓上覆蓋1層氧化層,以改變晶圓的導(dǎo)電性等特性,最大優(yōu)點(diǎn)為可為晶圓廠客戶節(jié)省部分制程,目前全球SOI晶圓市場每年約200萬片,Soitec占其中約70%市占率,另外30%則由合作伙伴信越半導(dǎo)體占有;以臺灣市! 場而言,Soitec的SOI晶圓則有80~90%市占率。

Soitec以原有的SOI晶圓為基礎(chǔ),發(fā)展全耗盡(FD)技術(shù)產(chǎn)品線,對于28奈米甚至更先進(jìn)的14、11奈米世代的平面和3維電晶體(FinFET)均有對應(yīng)產(chǎn)品,Soitec表示,F(xiàn)D產(chǎn)品的好處在于可減少30%的功耗,并節(jié)省20~25%的制程步驟,在28奈米及更先進(jìn)制程中,每1步的設(shè)備花費(fèi)都比起過去的0.13mm昂貴得多,因此節(jié)省制程便是減少投資成本,在finFET的生產(chǎn)上,也可節(jié)省約1年的開發(fā)時間,在如今上市時間(time to market)便是一切的市場來說,降低開發(fā)時間是相當(dāng)重要的。



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