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[導讀]受到臺積電40奈米制程良率偏低影響,加上不愿始終處于與NVIDIA爭搶產能等因素,近期市場再度傳出超威(AMD)已決定部分繪圖芯片可能轉單至已分家的Global Foundries,希望能進一步改善繪圖芯片已長達近1年缺貨問題,超

受到臺積電40奈米制程良率偏低影響,加上不愿始終處于與NVIDIA爭搶產能等因素,近期市場再度傳出超威(AMD)已決定部分繪圖芯片可能轉單至已分家的Global Foundries,希望能進一步改善繪圖芯片已長達近1年缺貨問題,超威對此僅表示不予置評。

2009年5月,臺積電40奈米制程良率問題嚴重打亂超威新舊品出貨規(guī)畫,不僅令超威始終難以出現逆轉契機,也影響獲利表現,盡管臺積電再三保證良率已顯著改善,但已使得超威開始進行風險分散評估,近期市場再度傳出超威已計劃調整繪圖芯片代工計劃,將攜手已拆分的Global Foundries,在2011年上半的全新28奈米制程上進行合作。

據外電媒體報導,超威執(zhí)行長Dirk Meyer日前也已向相關人士透露超威繪圖芯片與Global Foundries的首次攜手將在28奈米制程上實現,不過此訊息仍未獲超威官方證實。

據了解,超威原計劃在熱銷的5000系列家族后,預計2010年下半發(fā)布下一代繪圖芯片,然在記取臺積電40奈米良率始終不爭氣,以及對手NVIDIA GeForce 200系列等產能排擠等諸多問題后,加上臺積電未來28奈米新制程恐來不及支應下,近期已改變代工計劃。

超威繪圖芯片產品線2010年內仍將持續(xù)使用臺? n電40奈米制程,架構方面則融合新舊2代的特點,而最重要的是,2011年上半會增列Global Foundries合作伙伴,采用28奈米新制程以分散風險= 而由于臺積電代工價格并不低,超威藉由部分轉單效應可望進一步撙節(jié)成本。

據臺積電先前規(guī)畫,28奈米制程將會在2010年上路,低耗電(LP)制程年6月底試產,28奈米高效能(HP)制程則于9月試產,而低耗電高介電層/金屬閘(28HPL)制程的試產時程則在12月進行,另外,臺積電決定跳過22奈米直接進入20奈米。

而目前擁有2X奈米技術能力的廠商包括英特爾(Intel)、三星電子(Samsung Electronics)、臺積電和Global Foundries,然在市場傳出超威轉單傳言下,臺積電與Global Foundries搶單固樁已可預見,未來20奈米技術上將陷激戰(zhàn)。



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