打數(shù)字戰(zhàn)?臺(tái)積電與三星制程之戰(zhàn)將越來(lái)越艱辛
隨著臺(tái)積電成功開發(fā)6納米制程,臺(tái)積電與三星電子將更激烈爭(zhēng)奪半導(dǎo)體代工第一的位置,但韓媒分析指出,若兩公司持續(xù)以數(shù)字為中心打宣傳戰(zhàn)的話,未來(lái)只會(huì)越來(lái)越艱辛。
據(jù)市調(diào)公司TrendForce公布的數(shù)據(jù)顯示,臺(tái)積電在半導(dǎo)體代工業(yè)界的全球市占率為48.1%,三星電子則有19.1%。過去三星電子被美國(guó)代工企業(yè)與聯(lián)電打壓時(shí),市占率曾只拿下個(gè)位數(shù),但三星集中于代工事業(yè)后,僅用2年時(shí)間就爬上第二名,也讓臺(tái)積電開始緊張起來(lái)。
韓國(guó)科技媒體《ddaily》報(bào)道就指出,業(yè)界認(rèn)為,隨著制程越來(lái)越精細(xì),未來(lái)可能會(huì)遇到拓展客戶、量產(chǎn)困難等問題。業(yè)界相關(guān)人士也分析:“隨著代工企業(yè)兩強(qiáng)版圖的行程,制程戰(zhàn)爭(zhēng)也會(huì)越來(lái)越激烈。若持續(xù)以數(shù)字為中心持續(xù)打宣傳戰(zhàn)的話,兩企業(yè)只會(huì)越來(lái)越艱辛。“
臺(tái)積電于17日成功以EUV(極紫外線)微影技術(shù)成功開發(fā)6納米制程,預(yù)計(jì)明年第一季開始試產(chǎn)。EUV微影技術(shù)比起傳統(tǒng)的ArF(氟化氬)的波長(zhǎng)較短,更容易刻畫出細(xì)密的半導(dǎo)體電路。6納米制程比起現(xiàn)有的7納米制程,可提高18%左右的集成電路密度。生產(chǎn)設(shè)備還能與7納米制程兼容,在不需要額外設(shè)計(jì)新的設(shè)備狀況下,有機(jī)會(huì)提前推出6納米制程的產(chǎn)品。
但不久前,三星電子才宣布成功以EUV微影技術(shù)開發(fā)出5納米制程,5納米制程的電路面積比7納米制程要少25%,用電效率、數(shù)據(jù)處理速度也各改善了20%、10%。三星電子計(jì)劃在本月出貨7納米制程產(chǎn)品,這些產(chǎn)品將通過高通、IBM等公司的移動(dòng)通訊芯片、中央處理器(CPU)上市。同時(shí),三星電子計(jì)劃在今年內(nèi)開始量產(chǎn)6納米制程產(chǎn)品,三星電子相關(guān)人士解釋,若計(jì)劃順利,將會(huì)在年底批量生產(chǎn)6納米的產(chǎn)品。
一直以來(lái),半導(dǎo)體代工產(chǎn)業(yè)都是由臺(tái)積電所主導(dǎo),在代工市場(chǎng)中超過5成的市占率幾乎是不可超越的存在,但三星電子從2017年4月成立代工廠事業(yè)部后,三星電子快速地縮小與臺(tái)積電的差距,也開始威脅到臺(tái)積電。