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[導(dǎo)讀]成立于1972年的永光化學(xué),1996年開始致力于電子化學(xué)事業(yè)發(fā)展,歷經(jīng)16年不間斷的創(chuàng)新研發(fā)建立自主技術(shù),目前已能供應(yīng)LCD、LED、及IC產(chǎn)業(yè)需要的光阻劑、顯影液以及研磨制程用的研磨液、拋光液,清洗液等關(guān)鍵化學(xué)品?;?

成立于1972年的永光化學(xué),1996年開始致力于電子化學(xué)事業(yè)發(fā)展,歷經(jīng)16年不間斷的創(chuàng)新研發(fā)建立自主技術(shù),目前已能供應(yīng)LCD、LED、及IC產(chǎn)業(yè)需要的光阻劑、顯影液以及研磨制程用的研磨液、拋光液,清洗液等關(guān)鍵化學(xué)品。

回顧2011年,受惠于手機、平板裝置觸控面板以及AMOLED制程光阻劑及各類制程化學(xué)品材料需求強勁的貢獻,永光化學(xué)的電子化學(xué)品營收較2010年成長16%,獲利大幅成長43%。永光化學(xué)總經(jīng)理陳偉望表示,未來將會持續(xù)推出因應(yīng)觸控面板與AMOLED制程用的光阻劑與相關(guān)制程需要的化學(xué)品,并增開發(fā)LED封裝材料相關(guān)產(chǎn)品。

陳偉望進一步指出,永光耕耘觸控面板關(guān)鍵化學(xué)品市場已逾五年,目前已能供應(yīng)觸控面板的絕緣層與保護層用的正/負型光阻劑(EPL 300 Series & EOC 130/ 180/200 Series產(chǎn)品),由于產(chǎn)品具備接著性、透明性、硬度、顯影及耐蝕刻特性佳,以及耐高溫、耐高濕等特性,為營業(yè)額帶來顯著貢獻。在這次參展中也將展出跟觸控相關(guān)關(guān)鍵光阻劑化學(xué)品,包括黑色EK520光阻劑以及EOC 200系列光阻劑。

黑色EK520光阻劑,因具高敏感度、良好黏著性(>4B )、高表面電阻、高線路電阻及優(yōu)良耐熱與耐化學(xué)的特性,可用在觸控面板保護玻璃;另外EOC 200系列光阻劑,用在觸控面板絕緣層與保護層的光阻劑,具備高硬度(4H)、良好金屬附著性(大于4B )、高穿透率(膜厚3.5μm,穿透率大于95 %)等特性,可以搭配無機堿型(KOH type)顯影液與緩沖型(Buffer type)顯影液使用。其中的EOC 210及EOC 250系列光阻劑,更可搭配不含金屬離子的TMAH顯影液使用。

陳偉望表示除了布局觸控產(chǎn)業(yè),也著眼于未來爆發(fā)潛力無窮的AMOLED市場,AMOLED較TFT LCD有更佳色彩飽和度、高亮度、高對比、反應(yīng)速度快等優(yōu)勢,是智慧型手機應(yīng)用的最佳顯示技術(shù)。目前三星與宏達電等手機領(lǐng)導(dǎo)品牌皆已在新款智慧型手機中陸續(xù)導(dǎo)入AMOLED顯示器,DIGITIMES Research預(yù)估,到2014年,全球中小尺寸(10吋以下)AMOLED 出貨量將達4.65億片, 2011-2014年復(fù)合成長率將可達到70.9%。

永光目前相對應(yīng)在AMOLED關(guān)鍵化學(xué)品,有應(yīng)用在AMOLED面板制程用的光阻劑,包括EPL 356 光阻劑,其具有高解析度、耐蝕刻性佳等優(yōu)點,用在制程中ITO與金屬線路的圖形化,也可用在絕緣層(insulator) 。而ENPI 300光阻劑有耐熱性佳、光阻Overhang角度佳等優(yōu)點,應(yīng)用在間隔層(Pillar or Rib)

陳偉望表示低溫多晶矽(LTPS)的TFT-LCD制程是提升面板制程效率,讓螢?zāi)痪邆涓逦?、更細致之畫質(zhì)的關(guān)鍵技術(shù)之一,永光化學(xué)EPL 386光阻劑應(yīng)用在LTPS制程,具有有高感光度、低耗能的特性,可提升面板的制程效率。而近年來不少業(yè)者推出可撓性顯示器,F(xiàn)SR 110光阻劑有高解析度(小于5 μm)、曝光能量低(高感光性)、制程寬容度大等特性,且具有可撓性與良好附著力,可涂布在軟性基材上,主要應(yīng)用在LCD面板驅(qū)動IC的覆晶薄膜封裝COF (Chip on Film)。

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