2008年，受到全球半導體市場衰退的影響，中國集成電路產業(yè)由前幾年的較快增長轉變?yōu)橄禄１M管中國以內需市場為主的集成電路設計業(yè)仍實現了一定增長，但嚴重依賴出口的芯片制造和封測行業(yè)下滑嚴重。市場的變化和利潤的減少迫使企業(yè)不斷創(chuàng)新，知識產權問題將變得更加重要。作為集成電路行業(yè)特殊的知識產權保護形式，集成電路布圖設計登記應得到更多的關注。

    最近，中國半導體行業(yè)協(xié)會知識產權工作部和上海硅知識產權交易中心聯(lián)合推出中國集成電路布圖設計登記2008年度報告，本期刊登部分節(jié)選，供業(yè)界研究參考。

    本報告數據來源于上海硅知識產權交易中心依據國知局公告建立的集成電路布圖設計登記數據庫。

    集成電路布圖設計登記數增長迅速2008年增長率達69.27%

    經檢索，截止到2008年12月31日，中國集成電路布圖設計登記共計2097件(包括國外的企業(yè)和個人在中國申請的布圖設計登記)。圖1為中國集成電路布圖設計登記年度分布圖。如圖1所示，以公開年統(tǒng)計，2001年-2008年間我國集成電路布圖設計登記的數量基本保持了較快上升的趨勢，這與我國集成電路行業(yè)近年來的發(fā)展現狀相吻合。

圖1 中國集成電路布圖設計登記年度分布圖（單位：件）

    2008年，我國登記數量達到創(chuàng)紀錄的606件，較上一年增長69.27%。這說明集成電路設計企業(yè)越來越多地利用布圖設計專有權保護創(chuàng)新，積極申請布圖設計登記。

    中國布圖設計登記數量遠超國外省市分布較為集中

    2001年-2008年，已公告的全國集成電路布圖設計登記共計2097件。其中，中國大陸企業(yè)及個人的布圖設計登記1714件(占總量的81.7%)，中國香港和中國臺灣地區(qū)布圖設計登記47件(占總量的2.2%，其中臺灣43件，香港4件)，國外布圖登記336件(占總量的16.0%，其中美國188件、日本126件、南非8件、韓國9件、法國2件、加拿大3件)。

    由此可見，其他國家在我國申請集成電路布圖設計登記的較少，主要集中于美國和日本(這兩個國家的登記數量占全部國外登記數量的93.45%)，但國外企業(yè)最近已經開始重視這方面的布局。

    圖2為中國集成電路布圖設計專有權省市排名圖。如圖2所示，國內集成電路布圖設計專有權的分布主要集中在上海、江蘇、北京、廣東四省市。上述地區(qū)的集成電路布圖設計登記的累計數量已達中國大陸各省市總量的80%，數量優(yōu)勢明顯。上海的布圖設計登記數量相對領先，這主要與上海集成電路產業(yè)鏈較全、設計企業(yè)相對聚集和政府政策引導有關。

圖2 全國布圖設計登記省市排名圖（單位：件）

    布圖設計專有權產品以MOS為主商用化程度較高

    圖3為集成電路布圖設計專有權產品的結構分布圖。如圖3所示，已經登記的集成電路布圖設計登記所涉及的產品，按結構分類主要包括Optical-IC(光電集成電路)、MOS(金屬-氧化物-半導體)、Bipolar(雙極)、Bi-MOS(雙極-金屬-氧化物-半導體)等。其中MOS類型所占比重最大，共計442件，約占總量的73%；其次為Bipolar，共計85件，約占總量的14%。

圖3 集成電路布圖設計專有權產品的結構分布圖

    根據布圖設計登記的商業(yè)利用日進行統(tǒng)計，可掌握集成電路布圖設計的商業(yè)利用情況。截止到2008年12月31日，布圖設計申請登記時，已投入商業(yè)利用的布圖設計共計1374件，而申請登記時，還未投入商業(yè)利用的布圖設計共計723件。在申請登記時，將近65%的布圖設計已經投入商業(yè)利用，由上可知，集成電路布圖設計的商業(yè)利用情況總體較好。

    國內企業(yè)保持優(yōu)勢有助于推進技術創(chuàng)新和產業(yè)發(fā)展

    表1為2008年中國大陸集成電路布圖設計的主要權利人列表。如表1所示，根據2008年公開的布圖設計登記的數量進行排名，企業(yè)登記多于科研院所，在前10名單位中，上海有4家，江蘇有3家，而北京有2家。

    上海華虹NEC電子有限公司在2008年公開的布圖設計登記數量共計24件，排名第一。但從總公開件數可知，該企業(yè)是近幾年，尤其是2008年才開始大量申請布圖設計登記。排名第二和第三的分別是上海貝嶺股份有限公司和無錫華潤矽科微電子有限公司。從總公開件數可知，上述兩家企業(yè)的總公開件數都達到了70件以上。由此可知，上述兩企業(yè)對布圖設計的知識產權保護一直都很重視。

    綜上所述，通過以上的對我國集成電路布圖設計登記的統(tǒng)計和分析可知，布圖設計登記總量保持逐年穩(wěn)定增長的態(tài)勢。在已登記的布圖設計中，商業(yè)利用率較高。國內企業(yè)與國外企業(yè)相比，有較大優(yōu)勢，部分國內集成電路企業(yè)對布圖設計登記給予了充分重視。

    集成電路布圖設計保護制度是知識產權保護國際規(guī)則的重要組成部分。上海貝嶺等公司利用布圖設計登記維護企業(yè)利益的例子也說明，布圖設計登記作為知識產權形式之一，在一定場合下作用不可忽視。

    與在專利申請方面國外企業(yè)在我國申請的數量超過國內企業(yè)的申請數量形成對比，在集成電路布圖設計登記申請方面，國內企業(yè)的布圖設計登記數量大大領先于國外企業(yè)的登記數量。國內外企業(yè)在對待專利保護和集成電路布圖設計保護的巨大反差，可能與企業(yè)戰(zhàn)略有關。但應當相信，國內集成電路企業(yè)繼續(xù)保持集成電路布圖設計方面的優(yōu)勢，必將有助于推進IC技術創(chuàng)新和產業(yè)發(fā)展。