在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)復(fù)蘇之際，北京微電子國際研討會(huì)于10月27日成功召開，摩爾定律這一引領(lǐng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的“圣經(jīng)”再次成為了主題演講會(huì)場(chǎng)爭(zhēng)論的焦點(diǎn)。

摩爾定律減速之爭(zhēng)

Intel中國研究院院長方之熙認(rèn)為，摩爾定律還將延續(xù)，技術(shù)的發(fā)展不會(huì)止步。目前Intel已開始15nm技術(shù)的研發(fā)，2011年將開始10nm技術(shù)的研發(fā)。追溯Intel的歷史，每兩年一代的新技術(shù)推出從未延遲，例如2005年的65nm技術(shù)，2007年的45nm技術(shù)及2009年的32nm技術(shù)都為業(yè)界帶來的全新的產(chǎn)品?！澳柖刹粫?huì)減速，但設(shè)計(jì)與制造成本的增加的確是事實(shí)，因此如何將更多的功能整合在一起，減少小批量產(chǎn)品將是對(duì)企業(yè)的一大挑戰(zhàn)?！?/p>

Synopsys副總裁潘建岳認(rèn)為，摩爾定律的延緩從45nm開始已很明顯，在之前的90nm和65nm，自技術(shù)開發(fā)成熟后，大批量產(chǎn)品上市ramp up通常需要2年的時(shí)間，但在 45nm技術(shù)代，ramp up速度已明顯出現(xiàn)了滯后。不過這對(duì)中國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)來說是件好事，因?yàn)槲覀冏汾s國際先進(jìn)的腳步將因此而更快。

在摩爾定律的引導(dǎo)下，更多的科學(xué)家在探索新材料與新工藝。SEMI中國區(qū)總裁陸郝安指出，為了提高半導(dǎo)體的性能，越來越多的元素已被成功應(yīng)用于半導(dǎo)體工藝之中。HKMG等新材料與新工藝的應(yīng)用將使半導(dǎo)體技術(shù)不斷發(fā)展自己，并超越自己。

摩爾定律的超越

Intel在追逐摩爾定律的同時(shí)，More Than Moore也是Intel中國研究院的重點(diǎn)研究課題之一。方之熙介紹，CPU與存儲(chǔ)器的3D封裝將可能是未來的發(fā)展方向之一。為解決CPU與Memory之間傳送速度及管腳限制等問題，光互連傳輸已在Intel得到成功開發(fā)。在Intel中國研究院10月中開幕儀式上，Intel就成功展示了第一套Light Peak高速光連線技術(shù)原型驗(yàn)證平臺(tái)，實(shí)現(xiàn)在Light Peak上承載DisplayPort 協(xié)議，傳輸帶寬高達(dá)10Gbps。

SOC技術(shù)的發(fā)展也是業(yè)界關(guān)注的焦點(diǎn)之一。“目前的SOC技術(shù)才剛剛開始，都還只是簡單的集成，”方之熙說。SOC未來在汽車電子等領(lǐng)域?qū)⒂泻艽蟮陌l(fā)展空間。當(dāng)然IP core的利用等問題也是需要仔細(xì)探討的。

中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的機(jī)會(huì)

半導(dǎo)體是新興產(chǎn)業(yè)，也是高科技的代表行業(yè)之一。每一次的危機(jī)都會(huì)給產(chǎn)業(yè)帶來新的變化。而此次中國在危機(jī)中率先復(fù)蘇，就充分證明了中國的實(shí)力。中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)理事長江上舟認(rèn)為，目前越來越多的IDM向Fab Lite轉(zhuǎn)型，這對(duì)中國半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)來說無疑是一個(gè)重大機(jī)遇。中國的半導(dǎo)體制造、設(shè)計(jì)與設(shè)備行業(yè)都應(yīng)該努力邁向世界先進(jìn)水平。

陸郝安說，SEMI作為國際半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)，愿意搭建國際的溝通橋梁，中國業(yè)者只要堅(jiān)定信心，就必定有更大的發(fā)展。