今天,小編將在這篇文章中為大家?guī)矶O管的有關(guān)報道,通過閱讀這篇文章,大家可以對它具備清晰的認(rèn)識,主要內(nèi)容如下。
由于 SiC MOSFET 尺寸緊湊、效率更高,并且在高功率應(yīng)用中具有卓越的性能,因此目前正在開關(guān)應(yīng)用中取代 Si 器件。 SiC 器件可實現(xiàn)更快的開關(guān)時間,從而顯著降低開關(guān)損耗。這些優(yōu)勢源于 SiC 器件獨特的電氣和材料特性——MOSFET 體二極管結(jié)構(gòu)固有的快速反向恢復(fù),這削弱了 SiC MOSFET 的優(yōu)勢。在快速反向恢復(fù)事件期間,設(shè)備可能會經(jīng)歷較大的電壓尖峰,從而給設(shè)備和整個系統(tǒng)帶來風(fēng)險。其他設(shè)計挑戰(zhàn)包括增加的電磁干擾 (EMI) 和意外故障,例如假柵極事件或寄生導(dǎo)通 。幸運的是,您可以減輕這些影響,從而優(yōu)化系統(tǒng)性能。
二極管從正向?qū)ǖ浇刂褂幸粋€反向恢復(fù)過程
二極管從正向?qū)ǖ浇刂褂幸粋€反向恢復(fù)過程
產(chǎn)生反向恢復(fù)過程的原因――電荷存儲效應(yīng)產(chǎn)生上述現(xiàn)象的原因是由于二極管外加正向電壓VF時,載流子不斷擴散而存儲的結(jié)果。當(dāng)外加正向電壓時P區(qū)空穴向N區(qū)擴散,N區(qū)電子向P區(qū)擴散,這樣,不僅使勢壘區(qū)(耗盡區(qū))變窄,而且使載流子有相當(dāng)數(shù)量的存儲,在P區(qū)內(nèi)存儲了電子