此前,三星早在6月份就已經宣布開啟3納米工藝制程生產,而臺積電在原先的規(guī)劃中打算在9月正式量產,但是因為一些原因延期到12月份。
IBM、AMD都從成功轉型成為了Fabless企業(yè),而隨著Intel10nm延期到2019下半年,關于他們也要逐步退出晶圓工廠的擔憂加劇。原來,Intel本計劃2016年就開始量產基于10nm工藝的CannonLake平臺處理器,結果tick-tock突然調
三星7納米LPP制程雖然將在2018下半年初步量產,第一款使用EUV極紫外線光刻技術的知識產權(IP)也在開發(fā),預計2019上半年正式問世。三星下一代5納米LPE制程則以7納米EUV制程技術改良,帶來更小的核心面積,以及更低功耗。
這兩年,三星電子、臺積電在半導體工藝上一路狂奔,雖然有技術之爭但把曾經的領導者Intel遠遠甩在身后已經是不爭的事實。在美國舉行的三星工藝論壇SFF 2018 USA之上,三星更是宣布將連續(xù)進軍5nm、4nm、3nm工藝,直逼
臺積電生產主管秀出一張張嚴禁攝影的投影片,剖析如何善用機械學習、大數據,打造出超越三星、格羅方德的制程管理。一位臺積公關主管事后都驚訝的說,“他怎么講這么多
對于全球半導體產業(yè)來說,經歷了2015年的產業(yè)大整合之后,整個產業(yè)競爭格局已經發(fā)生了深刻的變化。
英特爾在14納米及10納米制程推進出現延遲,已影響到處理器推出時程,也讓業(yè)界及市場質疑:摩爾定律是否已達極限?不過,英特爾仍積極尋求在7納米時代重回摩爾定律的方法,其中兩大武器,分別是被視為重大微影技術世代
Mentor Graphics公司(納斯達克代碼:MENT)今天宣布,借由完成 TSMC 10 納米FinFET V1.0 認證,進一步增強和優(yōu)化Calibre®平臺和Analog FastSPICE™ (AFS)平臺。除此之外,Calibre 和 Analog FastSPICE 平臺已
2015年,智能手機市場進入平緩增長期。廠商們逐漸意識到,只有創(chuàng)新更加大刀闊斧且果敢激進,才有可能在泥濘的市場中脫穎而出。如此,市場訴求開始倒逼位于供應鏈上游的芯片商加速升級。芯片廠商是敏感的,他們都在通
大約十年前,英特爾宣布了著名的“嘀嗒”(Tick-Tock)戰(zhàn)略模式。“嘀嗒”意為鐘擺的一個周期,“嘀”代表芯片工藝提升、晶體管變小,而“嗒”代表工藝不變,芯片核心架構的升