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7nm、10nm制造工藝搶灘大戰(zhàn)好戲不斷
今年，頻頻爆出摩爾定律將不再是制造工藝界的神話，雖說(shuō)如此，但新制造工藝的發(fā)展仍然不可忽視。而在14nm向10nm、7nm發(fā)展的過(guò)程中，解決漏電問(wèn)題就成為了關(guān)鍵。為了解決該問(wèn)題，Intel在其制造工藝中融合了高介電薄膜
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