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新研發(fā)CFD技術鎖定32奈米以下前段制程應用
諾發(fā)系統(tǒng)(Novellus)宣布已經(jīng)開發(fā) conformal film deposition (CFD)技術，可在高寬比4:1的結(jié)構(gòu)上有100%的階梯覆蓋能力。這項創(chuàng)新的 CFD 技術可以提供 32奈米以下在前段制程的需求，例如 gate liners、spacers、shal
諾發(fā)系統(tǒng)(Novellus)宣布已經(jīng)開發(fā) conformal film deposition (CFD)技術，可在高寬比4:1的結(jié)構(gòu)上有100%的階梯覆蓋能力。這項創(chuàng)新的 CFD 技術可以提供 32奈米以下在前段制程的需求，例如 gate liners、spacers、shal
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