受日本政府對韓國啟動半導體材料出口管制影響，在半導體行業(yè)有觀點認為，韓國三星電子的“非存儲器”戰(zhàn)略將受到影響。其原因是，日本限制出口的3類材料之一的“光刻膠（Resist）”可能對三星投產(chǎn)最尖端裝置產(chǎn)生影響。這關(guān)乎三星能否在今后的開發(fā)競爭中處于優(yōu)勢地位。

據(jù)《日本經(jīng)濟新聞》網(wǎng)站近日報道，行業(yè)團體“韓國半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會”常務(wù)安基鉉就日本加強出口管制的感光材料指出，“從光的波長來看，被稱為EUV的最尖端曝光裝置用光刻膠成為限制出口的對象”。在此基礎(chǔ)上表示“可能對生產(chǎn)大規(guī)模集成電路（LSI）的三星使用EUV的生產(chǎn)線產(chǎn)生影響”。

報道稱，一臺EUV售價約200億日元（1日元約合0.06元人民幣），操作也很復雜，但是能夠使更高性能的半導體開發(fā)成為可能。目前，能夠在量產(chǎn)線中使用EUV的被認為只有三星和臺積電制造。

圍繞大規(guī)模集成電路，三星在作為智能手機“大腦”的半導體代工生產(chǎn)等領(lǐng)域與臺積電競爭，在圖像傳感器領(lǐng)域與索尼競爭。全球市場份額在兩成左右，均位居第2位。三星的主營業(yè)務(wù)是保存手機等數(shù)據(jù)的存儲器業(yè)務(wù)，大規(guī)模集成電路在半導體業(yè)務(wù)營業(yè)利潤中所占比例還不到5%。

但是在存儲器市場，去年秋季之前拉動市場增長的美國IT巨頭面向服務(wù)器的投資暫歇，今年市場行情出現(xiàn)惡化。三星2019年4月至6月的營業(yè)利潤（速報值）較上年同期大幅減少56%。

報道介紹，受市場行情發(fā)生變化影響，三星4月份宣布，將在2030年之前投入巨額資金用于設(shè)備投資和研究開發(fā)。但是，在最尖端工序中使用的感光材料成為限制對象，計劃剛提出就遇挫。韓國的半導體業(yè)內(nèi)人士表示，“三星被戳到痛處”。三星原本計劃2019年下半年開始增產(chǎn)使用EUV的大規(guī)模集成電路，但現(xiàn)在可能推遲這一計劃。

另據(jù)臺灣鉅亨網(wǎng)7月15日援引韓聯(lián)社的報道稱，三星副會長李在镕的日本之行，已經(jīng)確保三星可以獲得三項半導體關(guān)鍵材料的緊急供應(yīng)，避免可能停產(chǎn)的燃眉之急。

消息人士透露，在7月13日召開的特別會議中，李在镕向公司管理高層告知，他已獲得足夠的氟化聚酰亞胺、光阻劑和氟化氫，以避免生產(chǎn)中斷。