美國(guó)阻撓ASML賣EUV光刻機(jī)給無錫SK海力士
[導(dǎo)讀]繼美國(guó)反對(duì)英特爾在中國(guó)四川成都擴(kuò)建工廠后，韓國(guó)存儲(chǔ)器芯片大廠SKHynix恐怕也將成為美中科技戰(zhàn)的新受害者。11月18日，路透社報(bào)道，SK海力士希望引入ASML（阿斯麥）最先進(jìn)的EUV設(shè)備，升級(jí)其無錫芯片廠的設(shè)備產(chǎn)品，控制成本并加速生產(chǎn)效率。但是，美國(guó)對(duì)此持反對(duì)意見。美國(guó)此前不斷...
11月18日，路透社報(bào)道，SK海力士希望引入ASML（阿斯麥）最先進(jìn)的EUV設(shè)備，升級(jí)其無錫芯片廠的設(shè)備產(chǎn)品，控制成本并加速生產(chǎn)效率。
但是，美國(guó)對(duì)此持反對(duì)意見。
美國(guó)此前不斷阻止中國(guó)采購(gòu)EUV設(shè)備，如今的執(zhí)行主體雖然是韓國(guó)企業(yè)，但由于會(huì)將先進(jìn)技術(shù)引入中國(guó)大陸，美國(guó)將扼殺這種風(fēng)險(xiǎn)。
三位知情人士透露，SK Hynix的生產(chǎn)計(jì)劃要求該公司引入荷蘭ASML生產(chǎn)的一些最新極紫外光刻(EUV)芯片制造設(shè)備來升級(jí)位于中國(guó)無錫工廠量產(chǎn)能力。不過，目前該計(jì)劃已經(jīng)遭到美國(guó)反對(duì)，理由是向中國(guó)運(yùn)送此類先進(jìn)工具可能被用來加強(qiáng)中國(guó)的軍事力量。
眾所周知，SK Hynix是全球最大的DRAM存儲(chǔ)芯片供應(yīng)商之一。從智能手機(jī)到數(shù)據(jù)中心，幾乎所有領(lǐng)域的電子設(shè)備都可以看到DRAM存儲(chǔ)芯片。顯然，美國(guó)寧愿芯片危機(jī)晚些化解，也不希望看到芯片制造商加大在中國(guó)的投資。
一名白宮高級(jí)官員拒絕就美國(guó)官員是否會(huì)允許SK Hynix將EUV工具帶到中國(guó)的問題發(fā)表具體評(píng)論。但這位官員表示，***政府仍專注于阻止中國(guó)利用美國(guó)及其盟國(guó)的技術(shù)來發(fā)展最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造，以幫助中國(guó)實(shí)現(xiàn)軍事現(xiàn)代化。
EUV進(jìn)口問題之所以深受各方關(guān)注，是因?yàn)镾K Hynix無錫廠對(duì)于全球電子行業(yè)至關(guān)重要。數(shù)據(jù)顯示，該工廠DRAM產(chǎn)能占SK海力士全部產(chǎn)能的50%，占全球總量的15%，任何重大變化都可能對(duì)全球儲(chǔ)存芯片市場(chǎng)產(chǎn)生影響。
熟悉SK Hynix在中國(guó)運(yùn)營(yíng)情況的人士表達(dá)了引入設(shè)備計(jì)劃擱置的擔(dān)憂：“未來2 ~ 3年內(nèi)，新型芯片在SK海力士的生產(chǎn)中所占的份額將會(huì)增加，因此需要EUV機(jī)器來控制成本和加快生產(chǎn)。”
若此現(xiàn)況未來幾年內(nèi)無法解決，這家韓國(guó)存儲(chǔ)器芯片大廠將可能在與三星電子和美光的競(jìng)爭(zhēng)時(shí)將處于劣勢(shì)。目前三星和美光也正在采用EUV設(shè)備，但所在的廠房目前并未面臨出口限制。
ASML發(fā)言人表示，過度或大范圍使用這些設(shè)備出口控制措施，可能會(huì)影響產(chǎn)業(yè)支應(yīng)半導(dǎo)體需求所需的產(chǎn)能，加劇全球芯片供給問題。
VLSIresearch 執(zhí)行長(zhǎng) Dan Hutcheson 表示，這些中國(guó)設(shè)廠的海外企業(yè)確實(shí)陷入美中科技戰(zhàn)。他補(bǔ)充說，無論誰想把先進(jìn)的EUV設(shè)備引入中國(guó)，都可能遭遇阻礙，因?yàn)槊绹?guó)認(rèn)為，這些先進(jìn)設(shè)備只要進(jìn)入中國(guó)領(lǐng)土就能為中國(guó)所用。
據(jù)兩位知情人士稱，艾司摩爾EUV光刻機(jī)的問題在SK海力士?jī)?nèi)部引起了足夠的關(guān)注，首席執(zhí)行官Lee Seok-hee在7月訪問華盛頓特區(qū)時(shí)向美國(guó)官員提出了這個(gè)問題。對(duì)此，SK海力士不予置評(píng)，并補(bǔ)充說，它根據(jù)各種市場(chǎng)環(huán)境靈活運(yùn)作，正在盡最大努力應(yīng)對(duì)市場(chǎng)和客戶的需求。
產(chǎn)能！EUV、DUV恐中國(guó)晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)最大障礙
在美國(guó)前總統(tǒng)特朗普?qǐng)?zhí)政期間成功地游說荷蘭政府阻止了將ASML的技術(shù)出售給中芯國(guó)際。
ASML的一位發(fā)言人說，該公司遵守所有的出口管制法律，并將其視為政府確保國(guó)家安全的 "有效工具"。但該公司表示，過度使用這些控制措施 "可能會(huì)影響到保持領(lǐng)先于日益增長(zhǎng)的半導(dǎo)體需求所需的生產(chǎn)能力"。
該發(fā)言人在一份聲明中說："廣泛使用出口管制可能會(huì)加劇微芯片供應(yīng)鏈問題，由于對(duì)其他行業(yè)的溢出效應(yīng)，這些問題已經(jīng)成為世界各國(guó)政府和政策制定者的主要關(guān)切，如汽車業(yè)。"
分析人士認(rèn)為，美國(guó)官員不會(huì)認(rèn)為SK 海力士將EUV光刻機(jī)引入中國(guó)大陸的做法與中國(guó)企業(yè)此前的做法有任何不同。
(圖源：ASML）
VLSI research首席執(zhí)行官丹·哈奇森說：“這些規(guī)定可能適用于任何在中國(guó)的芯片制造業(yè)務(wù)，無論是外國(guó)還是國(guó)內(nèi)控制的。任何在中國(guó)推進(jìn)EUV設(shè)備的公司都給了中國(guó)提供了芯片生產(chǎn)能力。一旦EUV落地中國(guó)大陸，你不知道它之后會(huì)去哪里。中國(guó)人總是善于抓住機(jī)會(huì)，來做任何他們想做的事情。”
ASML全球副總裁、中國(guó)區(qū)總裁沈波在最近的采訪中表示，對(duì)中國(guó)出口集成電路光刻機(jī)持開放態(tài)度，在法律框架下全力支持。同時(shí)明確表明，目前ASML除了EUV光刻機(jī)無法對(duì)中國(guó)客戶供貨外，其他產(chǎn)品都可以正常供貨。
傳：上海微“28nm光刻機(jī)”未通過02專項(xiàng)驗(yàn)收！在2002年之前，全球光刻機(jī)只有美國(guó)、荷蘭和日本擁有入場(chǎng)券，并對(duì)中國(guó)實(shí)施技術(shù)封鎖。近年來，全球光刻機(jī)市場(chǎng)依舊被ASML、Nikon（尼康）和Canon（佳能）三家瓜分，占據(jù)了全球半導(dǎo)體前道光刻機(jī)99%的市場(chǎng)。2002年，光刻機(jī)被列入“國(guó)家863重大科技攻關(guān)計(jì)劃”，上海微電子裝備有限公司由此成立。
近日有傳聞稱：“上海微電子的28nm光刻（傳聞型號(hào)為SSA800/10W）機(jī)沒有通過02專項(xiàng)的國(guó)家驗(yàn)收，無法在2021年底完成，28nm光刻機(jī)卡住了‘02專項(xiàng)’。”此消息在業(yè)內(nèi)不斷發(fā)酵引發(fā)熱議，并未得到官方回應(yīng)。
在“02專項(xiàng)光刻機(jī)項(xiàng)目二期”中，設(shè)定的時(shí)間為：2021年驗(yàn)收193nmArF浸沒式DUV光刻機(jī)，對(duì)標(biāo)產(chǎn)品為ASML 2018年推出的DUV光刻機(jī)：TWINSCAN NXT:2000i。
（DUV光刻機(jī)·圖源:ASML官網(wǎng))
然而，掌握光刻機(jī)技術(shù)并非易事。ASML先進(jìn)的EUV光刻機(jī)擁有超過10萬個(gè)零件，涉及到上游5000多家供應(yīng)商。這些零部件極為復(fù)雜，對(duì)誤差和穩(wěn)定性的要求極高，并且這些零件幾乎均屬于定制，90%零件采用的是世界上最先進(jìn)技術(shù)，85%的零部件是和供應(yīng)鏈共同研發(fā)。且更難的是調(diào)試、維護(hù)，設(shè)備中的一些接口需要工程師用高精度機(jī)械進(jìn)行打磨，尺寸調(diào)整次數(shù)更可能高達(dá)百萬次以上。
據(jù)了解，2015年交付第一臺(tái)EUV光刻機(jī)以來，截止至2020年底ASML一共交付了100臺(tái)，2021年前三季度交付31臺(tái)EUV光刻機(jī)，也就意味著到目前一共交付了131臺(tái)EUV光刻機(jī)。ASML預(yù)計(jì)，2022財(cái)年將交付55部EUV光刻機(jī)組。
（EUV光刻機(jī)·圖源:ASML官網(wǎng))
盡管EUV光刻機(jī)相當(dāng)之貴，接近1.2億美元一臺(tái)，但半導(dǎo)體廠商還是愿意去投入。因?yàn)?nm以及以上的工藝的確需要EUV光刻機(jī)，同樣的7nm工藝若使用EUV光刻技術(shù)之后晶體管密度和性能都變得更好。根據(jù)臺(tái)積電給出的數(shù)據(jù)，相較于初代7nm工藝，7nm EUV（N7 ）可以提供1.2倍的密度提升，同等功耗水平下提供10%的性能增幅，或者同性能節(jié)省15%的功耗。
目前，三星和臺(tái)積電都已經(jīng)使用7nm EUV工藝開始生產(chǎn)芯片。AMD發(fā)布的AMD Zen 3架構(gòu)第四代銳龍?zhí)幚砥鞑捎昧伺_(tái)積電7nm EUV工藝；英特爾7nm工藝研發(fā)進(jìn)展順利，采用了重新設(shè)計(jì)的簡(jiǎn)化流程，并借助EUV光刻技術(shù)，計(jì)劃在今年度實(shí)現(xiàn)7nm客戶端CPU產(chǎn)品“Meteor Lake”的tape in。
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