要想生產(chǎn)制造芯片，就必須得有光刻機(jī)，在光刻機(jī)領(lǐng)域內(nèi)，ASML的技術(shù)最為先進(jìn)。

因?yàn)锳SML研發(fā)制造的DUV光刻機(jī)和EUV光刻機(jī)幾乎占領(lǐng)了全球中高端市場(chǎng)，尤其是EUV光刻機(jī)，其更是生產(chǎn)制造7nm以下芯片的必要設(shè)備。

據(jù)悉，由于ASML的產(chǎn)能有限，EUV光刻機(jī)一直都供不應(yīng)求，而臺(tái)積電、三星一直都在想辦法獲得更多先進(jìn)的EUV光刻機(jī)。

例如，臺(tái)積電早下訂單，并從英特爾手中購買其退掉的EUV光刻機(jī)訂單;三星也明確表達(dá)了想要更多EUV光刻機(jī)的意愿。

當(dāng)然，臺(tái)積電、三星本身就是EUV光刻機(jī)安裝大戶，卻想要多EUV光刻機(jī)，主要為了擴(kuò)大芯片產(chǎn)能，畢竟這兩者都在新建工廠。

尤其是三星，其對(duì)EUV光刻機(jī)的需求更為強(qiáng)烈一些，一方面是因?yàn)槿堑腅UV光刻機(jī)安裝量相對(duì)較少，另一方面是三星用EUV工藝生產(chǎn)儲(chǔ)存芯片，對(duì)EUV光刻機(jī)需求更大。

但誰也沒有想到的是，進(jìn)入2022年后，意外就發(fā)生了，ASML位于德國的工廠發(fā)生了火災(zāi)，而該工廠主要生產(chǎn)制造光源系統(tǒng)，其是光刻機(jī)的三大核心之一。

另外，失火的德國工廠還研發(fā)制造晶圓工作臺(tái)等元器件，也是光刻機(jī)很重要的元器件。

作為全球最大的晶圓制造商，臺(tái)積電在1月10日公布了過去一年的“成績單”，足以令其他行業(yè)羨慕嫉妒。根據(jù)公布的最新財(cái)報(bào)，2021年最后一個(gè)月臺(tái)積電的營收達(dá)到1550億新臺(tái)幣，同比漲幅超過30%，2021全年?duì)I收高達(dá)1.58萬億新臺(tái)幣，折合人民幣3600多億，增幅達(dá)到18%。

雖然利潤數(shù)據(jù)暫時(shí)沒有公布，但根據(jù)往年盈利來看仍然在千億水平，更何況2021年的業(yè)績這么出色，盈利只會(huì)更高。在全球半導(dǎo)體行業(yè)，臺(tái)積電是不可或缺的角色，尤其是高端芯片制造領(lǐng)域，臺(tái)積電幾乎包攬了超過九成的訂單，蘋果目前是臺(tái)積電最大的客戶。不只是業(yè)績出色，市值表現(xiàn)更是非常驚人。截至1月12日，臺(tái)積電的市值達(dá)到6795億美元，折合人民幣4.32萬億，高居亞洲第一，即使是阿里巴巴、騰訊這樣的互聯(lián)網(wǎng)巨頭，也難以和臺(tái)積電匹敵，更是茅臺(tái)市值的1.7倍。

不止如此，臺(tái)積電還是全球市值最高的半導(dǎo)體公司，是一家真正的高科技公司，把持著全球芯片制造行業(yè)50%以上的市場(chǎng)，即使是韓國最強(qiáng)的三星電子也只能屈居行業(yè)第二。那么，臺(tái)積電如此賺錢，大部分利潤都被誰拿走了，背后大股東又是誰?內(nèi)行人道出實(shí)情。臺(tái)積電成立于上世紀(jì)80年代，而且是一家公司創(chuàng)造了一個(gè)行業(yè)，晶圓制造行業(yè)的第一家公司正是臺(tái)積電，公司創(chuàng)始人是張忠謀，在美國頂級(jí)高校讀完大學(xué)所有課程，畢業(yè)后直接進(jìn)入了美國排名前三的半導(dǎo)體公司，經(jīng)過多年努力成為公司的第三號(hào)核心人物。

在職業(yè)生涯的巔峰時(shí)期，張忠謀選擇離職回臺(tái)灣創(chuàng)辦了臺(tái)積電，憑借在行業(yè)內(nèi)多年的豐富經(jīng)驗(yàn)和資源，臺(tái)積電迅速崛起成為行業(yè)龍頭，短短幾十年時(shí)間穩(wěn)坐行業(yè)第一把交椅，而且和供貨商荷蘭ASML公司達(dá)成了深度合作關(guān)系。臺(tái)積電不僅將自己打造成為行業(yè)第一，還順勢(shì)成就了全球最大的光刻機(jī)制造商。根據(jù)資料顯示，臺(tái)積電在成立之初就獲得了荷蘭飛利浦集團(tuán)的投資，持股比例高達(dá)27%，而后來的ASML公司正是從飛利浦集團(tuán)獨(dú)立出來的一家半導(dǎo)體公司。

ASML公司起初很是不起眼，那時(shí)候全球的光刻機(jī)龍頭企業(yè)是日本的尼康、佳能，臺(tái)積電的工程師后來提出了新的光刻機(jī)制造想法，但是被日本企業(yè)果斷拒絕了，于是臺(tái)積電找到了荷蘭的ASML公司，合作推出了全球第一臺(tái)浸潤式光刻機(jī)，ASML從此一炮走紅，而日本巨頭從此沒落。如今，ASML公司是全球最大的光刻機(jī)制造商，集中全球頂尖技術(shù)的高端光刻機(jī)也是由ASML一家公司生產(chǎn)制造，每年生產(chǎn)的高端光刻機(jī)有一半賣給了臺(tái)積電，因?yàn)榕_(tái)積電具備最強(qiáng)的芯片制造技術(shù)，訂單量龐大，對(duì)于高端光刻機(jī)的需求自然也很大。

全球缺芯現(xiàn)象還在持續(xù)演進(jìn)，最近的國外科技峰會(huì)上，多位半導(dǎo)體行業(yè)的高管都表示，短期內(nèi)缺芯問題無法解決，并且預(yù)計(jì)2022年中期甚至全年都看不到芯片供應(yīng)改善。

據(jù)了解，缺芯問題已經(jīng)影響到了全球169個(gè)行業(yè)。不過，芯片制造和設(shè)備企業(yè)卻因此獲得了迅速發(fā)展。尤其是臺(tái)積電、ASML這兩個(gè)頭部企業(yè)更是實(shí)現(xiàn)營收利潤大漲。

近日，ASML、臺(tái)積電兩家企業(yè)再次傳來新消息，可謂是幾家歡喜幾家愁呀!

如今，荷蘭的ASML在光刻機(jī)行業(yè)是毫無疑問的霸主，占據(jù)全球市場(chǎng)份額的84%，且EUV高端光刻機(jī)更是獨(dú)家生產(chǎn)。在全球缺芯的情況下，更是成為行業(yè)關(guān)注的重點(diǎn)。

光刻機(jī)是芯片制造行業(yè)必不可少的最重要設(shè)備，目前DUV光刻機(jī)是主流，但只有EUV光刻機(jī)才能生產(chǎn)7nm以下芯片。因此，這兩種光刻機(jī)目前的需求都非常之大。

然而，ASML的光刻機(jī)產(chǎn)能卻有限，根本無法滿足芯片制造廠日益增長的需求。

為此，ASML也是開足馬力，計(jì)劃不斷擴(kuò)大產(chǎn)能。但沒想到的是，2022年剛開始，意外就出現(xiàn)了。ASML旗下的德國柏林工廠卻突然著火了，至于影響多大需要評(píng)估。

近日，AMSL柏林工廠火災(zāi)影響的初步評(píng)估正式公布?；馂?zāi)中受影響建筑的部分生產(chǎn)已經(jīng)恢復(fù)，其他未受影響的建筑已全面運(yùn)營，關(guān)于火災(zāi)影響的損壞評(píng)估還在進(jìn)行中。

重點(diǎn)是，ASML的這個(gè)柏林工廠主要生產(chǎn)制造光源系統(tǒng)，這可是光刻機(jī)三大核心系統(tǒng)之一。而初步評(píng)估顯示，DUV和EUV光刻機(jī)的部分部件，在火災(zāi)中都受到了影響。

芯片生產(chǎn)制造需要光刻機(jī)，尤其是先進(jìn)制程的芯片，像7nm及以下制程的芯片，更是離不開先進(jìn)的EUV光刻機(jī)。

據(jù)悉，臺(tái)積電最先量產(chǎn)7nm芯片，但采用的是DUV光刻機(jī)，EUV光刻機(jī)上市后，臺(tái)積電就推出了7nm EUV工藝，全面采用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)制造7nm芯片。

這是因?yàn)橛肈UV光刻機(jī)生產(chǎn)制造7nm芯片成本高、工藝復(fù)雜，而使用EUV光刻機(jī)就簡單很多，所以EUV光刻機(jī)上市后，各大芯片企業(yè)都爭相購買。

但從2019年開始，EUV光刻機(jī)就不能自由出貨，國內(nèi)廠商全額訂購的EUV光刻機(jī)，目前仍沒有實(shí)現(xiàn)交付。

2021年年底，ASML還明確表示DUV光刻機(jī)可以自由出貨，但EUV光刻機(jī)暫時(shí)還無法實(shí)現(xiàn)。

ASML、臺(tái)積電傳來消息，事關(guān)EUV光刻機(jī)、5nm、2nm芯片!行情變了

但沒有想到的是，ASML就EUV光刻機(jī)出貨表態(tài)一段時(shí)間后，EUV光刻機(jī)就傳來了消息。

據(jù)悉，ASML方面給出了預(yù)期，預(yù)計(jì)到2025年，全球在用光刻機(jī)設(shè)備中，EUV光刻機(jī)的占比將會(huì)高達(dá)60%。

就這意味著EUV光刻機(jī)將會(huì)在未來3年內(nèi)大量出貨、安裝，甚至是實(shí)現(xiàn)自由出貨，否則可能就無法實(shí)現(xiàn)60%的占比。

在ASML傳來的EUV光刻機(jī)的消息后，臺(tái)積電也傳來5nm、2nm芯片的消息。

根據(jù)臺(tái)積電發(fā)布的消息可知，使用DUV光刻機(jī)也是可以量產(chǎn)5nm制程的芯片，只不過成本較高、工藝更為復(fù)雜一些，需要更多層的曝光。

臺(tái)積電利用DUV光刻機(jī)量產(chǎn)7nm芯片，因?yàn)槌杀镜葐栴}，其放棄用DUV光刻機(jī)量產(chǎn)5nm芯片，而是直接選擇了EUV光刻機(jī)。