包括AMD及NVIDIA在內(nèi)的半導(dǎo)體公司都預(yù)測(cè)今年下半年全球芯片產(chǎn)能緊張的局面就會(huì)緩解，然而生產(chǎn)光刻機(jī)的ASML公司對(duì)此表示質(zhì)疑，該公司CEO Peter Wennink日前警告稱(chēng)半導(dǎo)體芯片制造公司的生產(chǎn)計(jì)劃野心勃勃，但可能面臨設(shè)備短缺。

Peter Wennink在采訪(fǎng)中表示，盡管各大半導(dǎo)體公司投資了數(shù)十億甚至數(shù)百億美元以提高產(chǎn)能，然而他們并不可能快速提高產(chǎn)能，因?yàn)橹萍s產(chǎn)能的還有半導(dǎo)體設(shè)備。

在接下來(lái)的兩年中，芯片產(chǎn)量的增長(zhǎng)將進(jìn)一步受到設(shè)備不足的限制，這都需要時(shí)間來(lái)解決。

就連ASML公司自己的光刻機(jī)生產(chǎn)都受到了限制，不過(guò)Intel CEO基辛格此前表示他們已經(jīng)派人去幫助ASML公司加速生產(chǎn)。

Intel并沒(méi)有提及他們派出多少工程師以及是怎樣幫助ASML提高光刻機(jī)產(chǎn)量的，但是他們很可能協(xié)助ASML加速新一代EUV光刻機(jī)的生產(chǎn)。

現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)還是NA 0.33技術(shù)的，Intel的重點(diǎn)押注在了下一代EUV光刻機(jī)，也就是NA 0.55的ASML新一代光刻機(jī)，據(jù)說(shuō)成本高達(dá)3億美元，約合19億元。

實(shí)際上4年來(lái)Intel實(shí)際上已經(jīng)下單了6臺(tái)NA 0.55的EUV光刻機(jī)，其中分為兩種，Twinscan Exe:5000系列主要用于工藝研發(fā)，產(chǎn)能輸出是185WPH，每小時(shí)生產(chǎn)185片晶圓，2023年上半年交付。

量產(chǎn)型的NA 0.55光刻機(jī)是Twinscan Exe:5200，產(chǎn)能提升到200WPH，每小時(shí)200片晶圓，預(yù)計(jì)會(huì)在2024年下線(xiàn)，Intel的20A工藝正好是在2024年量產(chǎn)。