加快推進納米壓印光刻技術在光電制造領域的應用

兩家市場領導者開展推廣和技術合作，通過結合各自優(yōu)勢，提供納米壓印光刻技術開發(fā)工具包，并實現(xiàn)大批量生產(chǎn)

奧地利圣弗洛里安和東京2022年9月20日 /美通社/ -- 全球首屈一指的光掩模供應商Toppan Photomask Co. Ltd.與為MEMS、納米技術和半導體市場提供晶圓鍵合及光刻設備的領先供應商EV Group（簡稱EVG）今天宣布，兩家公司已達成協(xié)議，共同推廣賦能光電產(chǎn)業(yè)的大批量制造(HVM)工藝—納米壓印光刻技術(NIL)。

EV Group和Toppan Photomask

此次合作結合NIL系統(tǒng)的領先供應商和開創(chuàng)者與半導體市場的光掩模領先供應商的優(yōu)勢，旨在確立NIL為光電制造的行業(yè)標準生產(chǎn)工藝，并加速其在HVM中實施，以支持各種應用。這些應用包括增強/混合/虛擬現(xiàn)實耳機、智能手機、汽車傳感器和醫(yī)療成像系統(tǒng)。

Toppan Photomask制造的半導體用光掩模，納米壓印光刻(NIL)母版采用同樣的材料、技術和工藝制造而成。來源：Toppan Photomask。

在EV Group 的NILPhotonics®能力中心，工藝工程師正在檢查200mm晶圓，該晶圓上的超構透鏡是用Toppan Photomask生產(chǎn)的母版及EVG的納米壓印光刻(NIL)工藝復制而成。來源：EV Group。

作為此次非排他性合作的一部分，EVG和Toppan Photomask將結合各自的知識、專長和服務，利用Toppan Photomask提供的主模板和EVG提供的設備及工藝開發(fā)服務，提供NIL開發(fā)工具包，以進一步推廣NIL技術并提高將該技術應用于工業(yè)生產(chǎn)的可能性。EVG還將在其位于奧地利總部的EVG NILPhotonics®能力中心，面向感興趣的公司提供NIL技術和產(chǎn)品演示。此外，對于有意在生產(chǎn)過程中使用NIL技術的企業(yè)，兩家公司都將對方指定為首選推薦的供應鏈合作伙伴。

Toppan Photomask Co. Ltd.首席技術官全燦旭(Chan-Uk Jeon)表示：“Toppan Photomask非常高興能與EVG合作。EVG的NIL工具和加工能力是世界一流的，將提高光電技術和其他將采用NIL技術的新技術成本效益。Toppan Photomask認為，兩家公司都具有顯著的優(yōu)勢，在此推動下，NIL技術有著良好的發(fā)展前景，有望成為另一種成功的光刻解決方案。”

實現(xiàn)納米壓印光刻技術成為主流制造技術

在創(chuàng)建任意形狀的精細圖案（如超構透鏡）的未來應用方面，傳統(tǒng)的光刻技術已達到了極限。NIL是一種公認且具有成本效益的工藝，可在復雜的結構上生成納米級分辨率的圖案，因此是這些應用的可行替代方案。NIL可以非常有效地大面積復制這些復雜的結構，設計限制較少，且工藝流程非常精簡，因此非常適用于原型設計和HVM。

20多年來，EVG一直是NIL技術領域的開創(chuàng)者，通過與光學材料（如粘合劑和抗蝕劑）、基板材料和印章生產(chǎn)供應商，以及光學元件和設備制造商等整個NIL供應鏈中的企業(yè)合作，為打造更加廣泛的NIL生態(tài)系統(tǒng)做出貢獻。EVG和Toppan Photomask分別是光刻和光掩模制造領域的知名行業(yè)領導者，兩家公司通過合作，旨將NIL作為光電行業(yè)的主流HVM技術加以推廣。

EV Group企業(yè)技術開發(fā)和知識產(chǎn)權總監(jiān)Markus Wimplinger稱：“我們很高興與Toppan Photomask合作，將納米壓印光刻技術引入主流制造應用。作為以最高質量標準著稱的領先半導體光掩模供應商，Toppan Photomask在使用滿足全球最嚴格生產(chǎn)要求的標準化生產(chǎn)方法方面擁有豐富的經(jīng)驗。此次是納米壓印工藝設備和服務提供商與納米壓印母版生產(chǎn)商之間的首次合作，對行業(yè)來說是一次巨大的勝利，我們將通過合作，幫助我們的客戶迅速擴大NIL應用，使之成為先進光學設備和元件的批量生產(chǎn)技術，幫助他們將新的‘虛擬’構思變?yōu)楝F(xiàn)實?！?/p>

即將舉行的納米壓印行業(yè)活動

兩家公司的專家將參加9月19日至23日在比利時魯汶Gasthuisberg學術園區(qū)舉行的Micro and Nano Engineering (MNE) Eurosensors 2022 Conference大會，并在會上對此次合作進行討論。與會者可參觀EVG的S8號展位，以獲取更多信息。

此外，EVG的Christine Thanner將出席于10月5日在日本富山舉行的納米壓印和納米印刷技術(NNT)會議，并將在全體大會上發(fā)表題為 “納米壓印—從小眾到大批量生產(chǎn)”的特邀演講，屆時她將闡述NIL母版制造技術、復制設備和工藝的匹配組合的重要性。

NILPhotonics能力中心：靈活的合作模式

EVG的NILPhotonics能力中心為整個NIL供應鏈中的客戶和合作伙伴提供開放的創(chuàng)新孵化器，讓他們可以通過合作，縮短創(chuàng)新光電設備和應用的開發(fā)周期及上市時間。該中心高度靈活，可滿足客戶的不同需求，同時確保為開發(fā)過程中的每個環(huán)節(jié)提供最高水平的IP保護。潔凈室旨在滿足最嚴格的客戶要求，并實現(xiàn)虛擬生產(chǎn)線概念，即將晶圓重新引入客戶的晶圓廠，以對其進行進一步加工。詳情請訪問：https://www.evgroup.com/products/process-services/nilphotonics-competence-center/。