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[導(dǎo)讀]回顧曾經(jīng)那些推動(dòng)全球半導(dǎo)體發(fā)展的技術(shù)和事件。1833年:第一次有記錄的半導(dǎo)體效應(yīng)邁克爾·法拉第(Michael Faraday)發(fā)現(xiàn)了硫化銀晶體中電導(dǎo)率隨溫度升高而增加的“特殊情況”。這與在銅和其他金屬中觀(guān)察到的情況相反。

回顧曾經(jīng)那些推動(dòng)全球半導(dǎo)體發(fā)展的技術(shù)和事件。1833年:第一次有記錄的半導(dǎo)體效應(yīng)邁克爾·法拉第(Michael Faraday)發(fā)現(xiàn)了硫化銀晶體中電導(dǎo)率隨溫度升高而增加的“特殊情況”。這與在銅和其他金屬中觀(guān)察到的情況相反。

圖:法拉第



1874年:發(fā)現(xiàn)半導(dǎo)體點(diǎn)接觸式整流器效應(yīng)

第一個(gè)半導(dǎo)體二極管書(shū)面說(shuō)明,費(fèi)迪南德·布勞恩(Ferdinand Braun)指出,在金屬點(diǎn)與方鉛礦晶體接觸處,電流只朝一個(gè)方向自由流動(dòng)。



1901年:半導(dǎo)體整流器獲得“晶體管觸須(CAT'S WHISKER)”探測(cè)器專(zhuān)利


無(wú)線(xiàn)電先驅(qū)、印度加爾各答總統(tǒng)學(xué)院物理學(xué)教授Jagadis Chandra Bose申請(qǐng)了檢測(cè)無(wú)線(xiàn)電波的半導(dǎo)體晶體整流器的專(zhuān)利。


圖:Jagadis Chandra Bose



1926年:場(chǎng)效應(yīng)半導(dǎo)體器件申請(qǐng)專(zhuān)利


Julius Lilienfeld申請(qǐng)了一項(xiàng)專(zhuān)利,描述了一種基于硫化銅半導(dǎo)體特性的三電極放大裝置。直到1930年代,人們一直在嘗試制造這種設(shè)備。


圖:Julius E. Lilienfeld



1931年:《電子半導(dǎo)體理論》出版


艾倫·威爾遜(Alan Wilson)用量子力學(xué)來(lái)解釋半導(dǎo)體的基本特性。七年后,鮑里斯?達(dá)維多夫(蘇聯(lián))、內(nèi)維爾?莫特(英國(guó))和沃爾特?肖特基(德國(guó))都對(duì)半導(dǎo)體進(jìn)行了理論解釋。


圖:在劍橋的Alan Wilson


1940年:發(fā)現(xiàn)P-N結(jié)

Russell Ohl發(fā)現(xiàn)了硅中的P-N結(jié)和光伏效應(yīng),從而促進(jìn)了結(jié)晶體管和太陽(yáng)能電池的發(fā)展。


圖:在貝爾實(shí)驗(yàn)室的Russell Ohl



1941年,半導(dǎo)體二極管整流器用于二戰(zhàn)


開(kāi)發(fā)出用于戰(zhàn)時(shí)雷達(dá)微波探測(cè)器的高純度鍺和硅晶體的生產(chǎn)技術(shù)。


圖:卡爾·拉克·霍洛維茲(Karl Lark-Horowitz)(右)和西摩·本澤(Seymour Benzer),約1942年在普渡大學(xué)



1947年:點(diǎn)接觸晶體管的發(fā)明


1947年12月,約翰·巴?。↗ohn Bardeen)和沃爾特·布拉頓(Walter Brattain)在鍺點(diǎn)接觸器件中實(shí)現(xiàn)了晶體管作用。




1948年:歐洲晶體管的發(fā)明


Herbert Mataré和Heinrich Welker在法國(guó)發(fā)明了鍺點(diǎn)接觸晶體管。


圖:Herbert Mataré



1948年:結(jié)型晶體管的構(gòu)想


威廉·肖克利(William Shockley)基于對(duì)P-N結(jié)效應(yīng)的理論理解,構(gòu)想了一種改進(jìn)的晶體管結(jié)構(gòu)。


圖:威廉·肖克利(William Shockley)描述結(jié)晶體管理論



1951年: 發(fā)明區(qū)域熔煉


William Pfann和Henry Theurer開(kāi)發(fā)了用于生產(chǎn)超純半導(dǎo)體材料的區(qū)域熔煉技術(shù)。


圖:William Pfann和Jack Scaff使用早期區(qū)熔精煉設(shè)備



1951年:第一個(gè)制造的生長(zhǎng)結(jié)晶體管


戈登·蒂爾(Gordon Teal)生長(zhǎng)出了大型鍺單晶,并與摩根·斯帕克斯(Morgan Sparks)合作制造了一個(gè)N-P-N結(jié)晶體管。


圖:1951年戈登·蒂爾(Gordon K. Teal)(左)和貝爾實(shí)驗(yàn)室的摩根·史克斯(Morgan Sparks)



1952年:晶體管消費(fèi)品出現(xiàn)


半導(dǎo)體開(kāi)始出現(xiàn)在電池供電的助聽(tīng)器和袖珍收音機(jī)中,消費(fèi)者愿意為便攜性和低功耗支付高價(jià)。


圖:Sonotone 1010助聽(tīng)器使用了一個(gè)晶體管和兩個(gè)電子管



1952年:貝爾實(shí)驗(yàn)室授權(quán)晶體管技術(shù)


貝爾實(shí)驗(yàn)室的技術(shù)研討會(huì)和晶體管專(zhuān)利授權(quán)大大鼓勵(lì)了半導(dǎo)體的發(fā)展。


圖:杰克·A·莫頓(Jack A.Morton)(左)和貝爾實(shí)驗(yàn)室的JR·威爾遜,約1948年



1953年:晶體管計(jì)算機(jī)問(wèn)世


晶體管計(jì)算機(jī)樣機(jī)證明了半導(dǎo)體與真空管相比,具有體積小、功耗低的優(yōu)點(diǎn)。


圖:SEAC計(jì)算機(jī)操作員站



1954年:為晶體管開(kāi)發(fā)擴(kuò)散過(guò)程


在使用高溫?cái)U(kuò)散法生產(chǎn)太陽(yáng)能電池之后,Charles Lee和Morris Tanenbaum將該技術(shù)應(yīng)用于制造高速晶體管。


圖:貝爾實(shí)驗(yàn)室的首批擴(kuò)散基極硅晶體管之一



1954年:硅晶體管展現(xiàn)優(yōu)越的工作特性


莫里斯·塔南鮑姆(Morris Tanenbaum)在貝爾實(shí)驗(yàn)室制造了第一個(gè)硅晶體管,但德州儀器公司的工程師制造并銷(xiāo)售了第一個(gè)商業(yè)設(shè)備。


圖:貝爾實(shí)驗(yàn)室的Morris Tanenbaum(左)和Charles Lee(右)



1955年:光刻技術(shù)被用于制造硅器件


朱爾斯·安德魯斯(Jules Andrus)和沃爾特·邦德(Walter Bond)采用印刷技術(shù)中的光刻技術(shù),使硅晶圓上的擴(kuò)散“窗口”得以精確蝕刻。




1955年:氧化物掩蔽的發(fā)展


卡爾·弗羅施(Carl Frosch)和林肯·德里克(Lincoln Derick)在晶片上生長(zhǎng)了一層二氧化硅薄膜,以保護(hù)其表面,并允許受控?cái)U(kuò)散到底部的硅層。


圖:Calvin Fuller,Carl Frosch和Lincoln Derick的早期擴(kuò)散爐



1956年:硅谷誕生


肖克利半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室培育了年輕的工程師和科學(xué)家——未來(lái)硅谷的中流砥柱,與此同時(shí)開(kāi)發(fā)了北加利福尼亞州的第一批原型硅器件。

圖:在加利福尼亞帕洛阿爾托的Rickey's酒店敬酒肖克利的諾貝爾獎(jiǎng)。



1958年:演示半導(dǎo)體集成電路


杰克·基爾比(Jack Kilby)用半導(dǎo)體材料制作了一個(gè)有源和無(wú)源元件的集成電路。





1958年:硅臺(tái)面型晶體管進(jìn)入商業(yè)生產(chǎn)


仙童(Fairchild)半導(dǎo)體生產(chǎn)雙擴(kuò)散硅臺(tái)面晶體管,以滿(mǎn)足苛刻的航空航天應(yīng)用。


1958年:隧道二極管有望實(shí)現(xiàn)高速半導(dǎo)體開(kāi)關(guān)


隧道二極管是江崎玲于奈1958年8月時(shí)發(fā)明的,當(dāng)時(shí)他在東京通訊工業(yè)株式會(huì)社(現(xiàn)在的索尼)。1973年時(shí)江崎玲于奈和布賴(lài)恩·約瑟夫森因?yàn)榘l(fā)現(xiàn)上述半導(dǎo)體中的量子穿隧效應(yīng)而獲得諾貝爾物理獎(jiǎng)。羅伯特·諾伊斯在為威廉·肖克利工作時(shí)也有有關(guān)隧道二極管的想法,但沒(méi)有繼續(xù)進(jìn)行研究。





1959年:實(shí)用單片集成電路概念專(zhuān)利


羅伯特·諾伊斯(Robert Noyce)在約翰·拉爾斯(Jean Hoerni)的平面工藝的基礎(chǔ)上,申請(qǐng)了一種可以大批量生產(chǎn)的單片集成電路結(jié)構(gòu)專(zhuān)利。


圖:羅伯特·諾伊斯(Robert Noyce)于1962年擔(dān)任飛兆半導(dǎo)體總經(jīng)理



1959年:“平面”制造工藝的發(fā)明


Jean Hoerni開(kāi)發(fā)了平面工藝來(lái)解決臺(tái)面晶體管的可靠性問(wèn)題,從而革新了半導(dǎo)體制造業(yè)。


圖:Jean Hoerni



1960年:外延沉積工藝提高晶體管性能


薄膜晶體生長(zhǎng)工藝的發(fā)展使晶體管具有高的開(kāi)關(guān)速度。


圖:伊恩·羅斯(Ian Ross)擔(dān)任貝爾實(shí)驗(yàn)室總裁的鉛筆素描



1960年:演示金屬氧化物半導(dǎo)體(MOS)晶體管


John Atalla和Dawon Kahng制作了可工作的晶體管并演示了第一個(gè)成功的MOS場(chǎng)效應(yīng)放大器。


圖:Dawon Kahang的MOS專(zhuān)利圖



1960年:制造了第一個(gè)平面集成電路


Jay Last設(shè)計(jì)并證明了基于Hoerni的平面工藝生產(chǎn)集成電路的可行性。


圖:杰伊·拉斯特(Jay Last)和戈登·摩爾(Gordon Moore)



1961年:專(zhuān)用半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備進(jìn)入商業(yè)市場(chǎng)


半導(dǎo)體以及一些專(zhuān)門(mén)的供應(yīng)商為高通量制造建立專(zhuān)用的測(cè)試設(shè)備。


圖:聯(lián)合創(chuàng)始人Vic Grinich在Fairchild領(lǐng)導(dǎo)了IC測(cè)試儀開(kāi)發(fā)



1961年:硅晶體管速度超過(guò)鍺


計(jì)算機(jī)架構(gòu)師Seymour Cray資助了首款硅器件的開(kāi)發(fā),以滿(mǎn)足世界上最快的機(jī)器的性能需求。


圖:Jean Hoerni在實(shí)驗(yàn)室工作



1962年:航天系統(tǒng)計(jì)算機(jī)首次使用集成電路


與分立晶體管設(shè)計(jì)相比,集成電路的尺寸、重量和功耗更小,盡管成本很高,但軍事和航空航天系統(tǒng)中剛好適合。




1963年:推出標(biāo)準(zhǔn)邏輯IC系列


二極管-晶體管邏輯(DTL)系統(tǒng)為數(shù)字集成電路創(chuàng)造了一個(gè)大批量的市場(chǎng),但是速度、成本和密度優(yōu)勢(shì)使晶體管-晶體管邏輯(TTL)成為20世紀(jì)60年代后期最流行的標(biāo)準(zhǔn)邏輯配置。


圖:在推出Signetics SE124 DTL觸發(fā)器2年后,F(xiàn)airchild的930系列DTL(右)更小、更便宜、更快



1963年:互補(bǔ)MOS結(jié)構(gòu)被發(fā)明


弗蘭克·萬(wàn)拉斯(Frank Wanlass)發(fā)明了最低功率邏輯器件,但是性能限制阻礙其成為當(dāng)時(shí)的流行技術(shù)。

圖:Frank Wanlass專(zhuān)利圖紙中的CMOS器件結(jié)構(gòu)



1964年:首個(gè)商用MOS集成電路問(wèn)世


通用微電子公司使用金屬氧化物半導(dǎo)體(MOS)工藝在一個(gè)芯片上封裝比雙極集成電路更多的晶體管,并建立了第一個(gè)使用該技術(shù)的計(jì)算機(jī)芯片組。


圖:1966年Andy Grove,Bruce Deal和Ed Snow在Fairchild Palo Alto研發(fā)實(shí)驗(yàn)室討論MOS技術(shù)



1964年:推出第一個(gè)廣泛使用的模擬集成電路


Fairchild的戴維?塔爾伯特(David Talbert)和羅伯特?威德拉(Robert Widlar)為模擬IC創(chuàng)建成功的商業(yè)模式,并為其開(kāi)啟了一個(gè)主要的行業(yè)領(lǐng)域。


圖:羅伯特·威德拉(Robert Widlar)于1977年檢查L(zhǎng)M10掩模的布局



1964年:混合微電路達(dá)到產(chǎn)量峰值


為IBM System/360計(jì)算機(jī)家族開(kāi)發(fā)的多芯片SLT封裝技術(shù)進(jìn)入量產(chǎn)階段。

圖:1964年的IBM System 360手冊(cè)封面包含SLT模塊



1965年:半導(dǎo)體只讀存儲(chǔ)器芯片出現(xiàn)


半導(dǎo)體只讀存儲(chǔ)器(ROM)擁有高密度和每比特低成本的優(yōu)勢(shì)。




1965:第一個(gè)為整體系統(tǒng)設(shè)計(jì)的封裝產(chǎn)品


雙直列封裝(DIP)模式大大簡(jiǎn)化了印刷電路板的布局,降低了計(jì)算機(jī)的組裝成本。




1965年:大型計(jì)算機(jī)采用集成電路


大型計(jì)算機(jī)制造商宣布推出專(zhuān)用集成電路的計(jì)算機(jī)。




1965年:“摩爾定律”預(yù)言了集成電路的未來(lái)


仙童公司的研發(fā)總監(jiān)預(yù)測(cè)了集成電路中晶體管密度的增長(zhǎng)速度,并為技術(shù)進(jìn)步建立了一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)。




1966年:為IC開(kāi)發(fā)了計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)工具


IBM工程師率先使用計(jì)算機(jī)輔助的電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化工具來(lái)減少錯(cuò)誤并加快設(shè)計(jì)時(shí)間。


圖:1967年在Fairchild上使用IBM 360/67大型機(jī)驅(qū)動(dòng)的CAD系統(tǒng)



1966年:半導(dǎo)體RAM滿(mǎn)足高速存儲(chǔ)需求


雙極性RAM進(jìn)入計(jì)算機(jī)市場(chǎng),用于高性能暫存器和高速緩存應(yīng)用。


圖:16位雙極性TTL RAM的金屬掩膜圖——1967年電視紀(jì)錄片的屏幕圖像



1967年:專(zhuān)用集成電路采用計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)


自動(dòng)化設(shè)計(jì)工具減少了開(kāi)發(fā)工程設(shè)計(jì)和交付復(fù)雜的定制集成電路的時(shí)間。


圖:Fairchild 4500-1967 DTL 32門(mén)Micromatrix定制陣列,使用CAD工具進(jìn)行設(shè)計(jì)



1967年:一站式解決方案設(shè)備供應(yīng)商改變了行業(yè)格局


第三方供應(yīng)商為半導(dǎo)體制造的提供專(zhuān)業(yè)設(shè)備,并成為中間技術(shù)和一站式制造設(shè)備的供應(yīng)商。其中應(yīng)用材料成立于1967年。


圖:Michael McNeilly和Walter Benzing在Applied Materials,Inc.率先開(kāi)發(fā)了外延沉積設(shè)備。



1968年:為IC開(kāi)發(fā)了硅柵技術(shù)


費(fèi)德里克·法格(Federico Faggin)和湯姆·克萊(Tom Klein)改善了具有硅柵結(jié)構(gòu)的MOS IC的可靠性,封裝密度和速度。法格設(shè)計(jì)了第一款商用硅柵極IC –飛兆3708。


圖:費(fèi)德里科·法金(Federico Faggin)和湯姆·克萊因(Tom Klein)于1967年在仙童(Fairchild)研發(fā)



1968年:專(zhuān)用電流源IC集成了數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換功能


Fairchild的George Erdi設(shè)計(jì)了首批專(zhuān)用于數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換應(yīng)用的IC之一的μA722 10位電流源。


圖:Fairchild μA722 10位電流源,用于數(shù)模轉(zhuǎn)換器



1969年:肖特基勢(shì)壘二極管使TTL存儲(chǔ)器的速度提高了一倍


設(shè)計(jì)方法的創(chuàng)新改進(jìn)了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的64位TTL RAM架構(gòu)的速度,并降低了功耗??焖賾?yīng)用于新的雙極邏輯和存儲(chǔ)器設(shè)計(jì)。


圖:i3101肖特基TTL 64位RAM是英特爾的第一款產(chǎn)品



1970年:MOS動(dòng)態(tài)RAM與磁芯存儲(chǔ)器的價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)


英特爾i1103 DRAM開(kāi)啟了半導(dǎo)體對(duì)磁芯存儲(chǔ)器的挑戰(zhàn)。


圖:Fairchild的1024位SAM多芯片存儲(chǔ)平面使用16個(gè)64位PMOS靜態(tài)RAM芯片(1968)



1971年:微處理器將CPU功能集成到單個(gè)芯片上


為了減少運(yùn)算器設(shè)計(jì)需要的芯片數(shù),英特爾工程師創(chuàng)造了第一個(gè)單片微處理器(CPU),i4004.


圖:英特爾MPU 4004



1971年:可重復(fù)使用的可編程ROM引入了迭代設(shè)計(jì)靈活性


以色列工程師Dov Frohman發(fā)明的紫外線(xiàn)可擦寫(xiě)ROM設(shè)計(jì)為快速開(kāi)發(fā)基于微處理器的系統(tǒng)提供了重要的設(shè)計(jì)工具,稱(chēng)為可擦寫(xiě)、可編程只讀存儲(chǔ)器或EPROM。


圖:EPROM發(fā)明家Dov Frohman



1974年:量化了IC工藝設(shè)計(jì)規(guī)則的數(shù)量


IBM研究員Robert Dennard關(guān)于MOS存儲(chǔ)器的過(guò)程縮放的論文加速了縮小物理尺寸和制造越來(lái)越復(fù)雜的集成電路的全球競(jìng)爭(zhēng)。


圖:IBM研究員Robert Dennard



1974年:通用微控制器系列的發(fā)布


TMS 1000微控制單元/MCU出現(xiàn)了單芯片計(jì)算器設(shè)計(jì),可用于要求不高的任務(wù),例如控制器或者微波爐。


圖:TMS 1000微控制器的早期版本



1974年:電子表是第一個(gè)片上系統(tǒng)集成電路


MICROMA液晶顯示器(LCD)數(shù)字手表是將完整的電子系統(tǒng)集成到稱(chēng)為系統(tǒng)級(jí)芯片(SOC)的單個(gè)硅芯片上的第一款產(chǎn)品。


圖:漢密爾頓Pulsar數(shù)字手表的電子模塊



1978年:用戶(hù)可編程邏輯器件的誕生


單片存儲(chǔ)器公司的John Birkner and H. T. Chua開(kāi)發(fā)了易于使用的可編程陣列邏輯(PAL)器件和工具,用于快速原型化定制邏輯功能。


圖:80年代中期的H. T. Chua和John Birkner



1979年:推出了單芯片數(shù)字信號(hào)處理器


貝爾實(shí)驗(yàn)室的單芯片DSP-1數(shù)字信號(hào)處理器設(shè)備架構(gòu)針對(duì)電子開(kāi)關(guān)系統(tǒng)進(jìn)行了優(yōu)化。


圖:貝爾實(shí)驗(yàn)室的DSP-1器件版本

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從外部看,電子系統(tǒng)仿佛一個(gè)統(tǒng)一的學(xué)科或設(shè)備,各組成部分協(xié)同工作,渾然一體。然而揭開(kāi)表象,其內(nèi)在卻是另一番景象:一個(gè)碎片化、多層次的世界——其中每一層都獨(dú)立且復(fù)雜,衍生出各自特有的工具、專(zhuān)家、工作流程,甚至哲學(xué)體系。

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歡迎蒞臨 SEMICON Taiwan 2025 英國(guó)館 I3022/J3034 展位,2025年9月10日至12日 | 臺(tái)北南港展覽館

關(guān)鍵字: 干簧繼電器 半導(dǎo)體 電動(dòng)汽車(chē)

挪威奧斯陸 – 2025年8月28日 – 在深圳會(huì)展中心(福田)舉辦的 elexcon2025 - 第 22 屆深圳國(guó)際電子展 1 號(hào)館 1L66 展位現(xiàn)場(chǎng),Nordic Semiconductor (以下簡(jiǎn)稱(chēng) “Nor...

關(guān)鍵字: 半導(dǎo)體 AI 雙碳

深圳2025年8月26日 /美通社/ -- 2025年10月15—17日,第二屆灣區(qū)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生態(tài)博覽會(huì)(灣芯展2025)將在深圳會(huì)展中心(福田)盛大舉辦。本屆展會(huì)持續(xù)放大交流展示、"雙招雙引"、商貿(mào)...

關(guān)鍵字: 半導(dǎo)體 TOP P30 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)
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