1 月 12 日消息，據(jù)臺媒中央社報道，臺積電 3 納米(N3)去年第四季度量產(chǎn)，升級版 3 納米(N3E)制程將于今年第三季度量產(chǎn)，預(yù)估今年 3 納米及升級版 3 納米將貢獻(xiàn)約 4% 至 6% 的營收。魏哲家指出，3 納米及升級版 3 納米今年合計將貢獻(xiàn)中個數(shù)百分比(約 4% 至 6%)營收，營收貢獻(xiàn)將高于 5 納米制程量產(chǎn)第一年的貢獻(xiàn)。

此外，蘋果可能是唯一一家采用臺積電N3制程技術(shù)的公司，因為其他客戶可能將使用具有進(jìn)一步改良后的N3E。同時，早期的N3良率可能不適用于N3E(及其N3技術(shù)系列的其他節(jié)點(diǎn))，這種工藝技術(shù)實際上是整個行業(yè)應(yīng)該關(guān)心的事情，因為它將被廣泛使用。

現(xiàn)代半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)包含數(shù)千個工藝步驟，取決于材料、使用的晶圓廠設(shè)備工具、工藝配方和許多其他因素。因此，可能有數(shù)千種方法可以提高或降低產(chǎn)量，這就是為什么對一個因素如何影響其他因素有非常深刻的了解很重要的原因。由于臺積電的N3(N3B)，N3E，N3S，N3P和N3X是非常不同的制造技術(shù)，早期的N3的高良率對于其他N3系列節(jié)點(diǎn)是好兆頭，但它們并不能保證其他節(jié)點(diǎn)會同樣成功(或不成功)。

臺積電表示，其3nm制程技術(shù)性能、功耗及面積(PPA) 及晶體管體技術(shù)為業(yè)界最先進(jìn)半導(dǎo)體邏輯制程技術(shù)，是繼5nm(N5) 制程后另一個全新世代制程。相較N5 制程，3nm邏輯密度增加約60%，或相同速度下功耗降低30%~35%，并支持創(chuàng)新的TSMC FINFLEXTM 架構(gòu)。

劉德音致詞時表示，臺積電保持技術(shù)領(lǐng)先，同時深耕臺灣，持續(xù)投資并與環(huán)境共榮，3nm量產(chǎn)暨擴(kuò)廠典禮展現(xiàn)臺積電在臺灣發(fā)展先進(jìn)技術(shù)及擴(kuò)充先進(jìn)產(chǎn)能的具體作為，與供應(yīng)鏈上下游一同成長，培養(yǎng)未來人才，從設(shè)計到制造、封裝測試、從設(shè)備、到材料，為世界釋放最具競爭力的先進(jìn)制程技術(shù)、可靠的產(chǎn)能驅(qū)動未來科技的創(chuàng)新。

值得注意的是，去年12月6日，臺積電位于美國亞利桑那州的晶圓廠一期項目召開首批機(jī)臺進(jìn)廠典禮，預(yù)計2024年開始投產(chǎn)4nm制程。同時，臺積電還宣布在亞利桑那州晶圓廠啟動二期工程，預(yù)計于2026年開始生產(chǎn)3nm制程技術(shù)。兩期工程總投資金額激增至400億美元。

總體來看，未來臺積電位于臺灣島外的28nm及以下先進(jìn)制程的海外產(chǎn)能將會持續(xù)增長。臺積電表示，依據(jù)客戶需求和政府支持力度，臺積電28nm及以下的海外產(chǎn)能，可能在五年或更長時間內(nèi)，在臺積電的28nm及以下總產(chǎn)能當(dāng)中的占比達(dá)到20%或以上。

臺積電此前在美國投資人日活動上已放出相關(guān)消息稱，臺灣在中國臺灣大本營持續(xù)擴(kuò)充先進(jìn)制程的同時，長期規(guī)劃的海外產(chǎn)能未來將達(dá)到總產(chǎn)能占比的20%。外界預(yù)計，相關(guān)占比有望在2027年至2028年前后達(dá)成。臺積電在今天的法說會上進(jìn)一步更新了臺灣島內(nèi)外產(chǎn)能計劃。

臺積電財務(wù)長暨發(fā)言人黃仁昭表示，盡管臺積電領(lǐng)先業(yè)界的5nm制程持續(xù)放量，臺積電第四季的營收表現(xiàn)仍受到終端市場需求疲軟以及客戶庫存調(diào)整所帶來的影響。邁入 2023 年第一季，因總體經(jīng)濟(jì)情勢依然孱弱，預(yù)期終端市場需求持續(xù)疲軟，以及客戶進(jìn)一步的庫存調(diào)整將更加影響臺積電業(yè)績。

根據(jù)對當(dāng)前業(yè)務(wù)狀況的評估，臺積電針對 2023 年第一季的業(yè)績展望為，合并營收預(yù)計介于 167 億美元到 175 億美元之間。若以新臺幣 30.7 元兌 1 美元的匯率計算，營收金額約在新臺幣5126.9 億元~ 5372.5 億元之間，較 2022 年第四季下滑14.1%~18%。毛利率預(yù)計介于 53.5% 到 55.5% 之間，營業(yè)利潤率預(yù)計介于 41.5% 到 43.5% 之間。

不過，最新的爆料顯示，臺積電為了刺激客戶使用其3nm系列制程技術(shù)，臺積電正在考慮降低該系列制程的報價，尤其是 N3E 制程，因為該制程最多只使用 19 層 EUV光刻流程，制造復(fù)雜度略低，這也使得其成本較低。這將使得臺積電可以在不損害獲利能力的情況下，進(jìn)一步降低 N3E 制程的生產(chǎn)報價。