近日，ASML在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱，該公司未來出口其先進(jìn)的浸潤式DUV光刻系統(tǒng)(即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)浸潤式系統(tǒng))時(shí)，將需要向荷蘭政府申請(qǐng)出口許可證。而ASML強(qiáng)調(diào)，該公司的EUV系統(tǒng)的銷售此前已經(jīng)受到限制。

據(jù)ASML官網(wǎng)提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒式DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

阿斯麥3月曾表示，預(yù)計(jì)2000i和2050i這兩款產(chǎn)品會(huì)受到荷蘭政府的出口限制。再對(duì)比阿斯麥今天的回應(yīng)來看，TWINSCAN NXT:1980Di這款浸潤式DUV光刻機(jī)并不在限制范圍內(nèi)。

ASML官網(wǎng)上關(guān)于這一臺(tái)TWINSCAN NXT:1980Di的介紹，其中在分辨率方面，寫到是大于等于38nm(可以支持到7nm左右)，而這是指一次曝光的分辨率，事實(shí)上光刻機(jī)是可以進(jìn)行多次曝光的。

理論上NXT:1980Di依然可以達(dá)到7nm，只是步驟更為復(fù)雜，成本更高，良率可能也會(huì)有損失，晶圓廠用這一臺(tái)光刻機(jī)，大多是生產(chǎn)14nm及以上工藝的芯片，很少去生產(chǎn)14nm以下的工藝，因?yàn)榱悸实?，成本高，沒什么競爭力。