據(jù)業(yè)內(nèi)消息，在荷蘭對(duì)光刻機(jī)實(shí)施了出口管制措施之后，業(yè)內(nèi)頻傳言 ASML 將規(guī)避該措施為中國(guó)市場(chǎng)推出特供 DUV 光刻機(jī)，近日 ASML 官方專門對(duì)此進(jìn)行了回應(yīng)。

消息人士表示，中國(guó)市場(chǎng)特供版 DUV 光刻機(jī)基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造，而該機(jī)器是 10 年前推出的舊型號(hào)，而不在本次官方禁令范圍內(nèi)。該機(jī)器可支持中芯國(guó)際、華虹等國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體來(lái)生產(chǎn) 28nm 以上的成熟工藝。

據(jù)悉，該光刻機(jī)是 ASML 現(xiàn)有效率比較低的光刻機(jī)，支持 NA 1.35 光學(xué)器件、分辨率可以達(dá)到 <38 nm，理論上可以支持 7nm 工藝。大多數(shù)晶圓廠使用 1980Di 光刻機(jī)主要生產(chǎn) 14nm 及以上工藝芯片，很少使用其生產(chǎn) 7nm 芯片。

然而 ASML 官方近日表示一直以來(lái)都遵守所適用的法律條例，公司并沒(méi)有面向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版的光刻機(jī)。

根據(jù)之前的報(bào)道，荷蘭出口新規(guī)于 9 月 1 日后生效，屆時(shí) ASML 將不得不向政府申請(qǐng)出口許可證才能出口先進(jìn)的浸潤(rùn)式 DUV 系統(tǒng)(即TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng))。

具體來(lái)說(shuō)，出口管制名單新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等浸入式 DUV，這些設(shè)備最高可支持 5nm 工藝，臺(tái)積電就使用 SAQP 和氬氟浸沒(méi) (ArFi) 光刻實(shí)現(xiàn)了 7 nm 量產(chǎn)。

ASML 在售的浸沒(méi)式光刻機(jī)主要有三大型號(hào)：TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i 和TWINSCAN NXT:1980Di。TWINSCAN NXT:1980Di 的分辨率可以達(dá)到≤38nm，每小時(shí)可以生產(chǎn)275片晶圓。

盡管其分辨率在 38nm 左右，但是通過(guò)多重曝光理論上依然可以支持 7nm 左右，只是這樣步驟更為復(fù)雜、成本更高，良率也會(huì)隨之變差，據(jù)說(shuō)臺(tái)積電的第一代7nm工藝也是基于 NXT:1980Di 實(shí)現(xiàn)的。

目前在業(yè)內(nèi) NXT:1980Di 更多還是被用于 ≤45nm以下成熟制程的生產(chǎn)，2018 年長(zhǎng)江存儲(chǔ)和華力二期(華虹六廠)訂購(gòu)的 NXT:1980Di 成功進(jìn)廠安裝，支持了兩家晶圓廠的生產(chǎn)。

2018 年下半年 ASML 正式出貨的更為先進(jìn)的浸潤(rùn)式光刻機(jī) NXT:2000i 通過(guò)多重曝光則可以支持到 7nm 及 5nm 制程工藝需求，同年 12 月 ASML NXT2000i 首次進(jìn)入中國(guó)，正式搬入 SK海力士位于無(wú)錫的工廠。