10月25日，第七屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS)在浙江麗水盛大開幕。在為期兩天的會議中，數(shù)十家機(jī)構(gòu)的嘉賓分別圍繞計(jì)算光刻、DTCO、EUV、工藝、量測、Deep Learning、設(shè)備、材料、新型光刻技術(shù)等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術(shù)挑戰(zhàn)。自2017年以來，IWAPS已經(jīng)在全國各地成功舉辦六屆。會議投稿、會議報(bào)告與參會人數(shù)逐年增加，行業(yè)反響熱烈，已成為國內(nèi)高端光刻技術(shù)領(lǐng)域的重要會議。

作為國內(nèi)計(jì)算光刻及電子束量測檢測領(lǐng)域的先行者、領(lǐng)導(dǎo)者、探索者，東方晶源受邀參會，通過兩場重磅演講與大家分享在應(yīng)對產(chǎn)業(yè)發(fā)展瓶頸方面的新思路、新努力和新成果，展現(xiàn)出其所在領(lǐng)域的先進(jìn)水平。

在第一天的會議中，東方晶源董事長兼CTO俞宗強(qiáng)博士帶來題為《HPOTM EDA-Plus Enables An Ultimate DTCO》的演講。設(shè)計(jì)制造一體化良率提升解決方案HPOTM由俞宗強(qiáng)博士在2014年創(chuàng)建東方晶源伊始首次提出。經(jīng)過近十年的不懈努力，該理念已在電子束圖像系統(tǒng)(SEM)、計(jì)算光刻(OPC)和布局布線技術(shù)(P&R)等核心技術(shù)取得實(shí)際突破，為設(shè)計(jì)到制造環(huán)節(jié)雙向數(shù)據(jù)交流進(jìn)而構(gòu)建全局優(yōu)化解決方案奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。演講中，俞宗強(qiáng)博士展現(xiàn)了HPOTM 核心理念和關(guān)鍵技術(shù)，并通過實(shí)例演示該解決方案在提高良品率和芯片性能方面取得的顯著成效。俞宗強(qiáng)博士表示：東方晶源是唯一一家能夠全面提供P&R、OPC、量測、檢驗(yàn)和良率管理系統(tǒng)和工具的公司，這種獨(dú)特性使我們能夠提供與眾不同的設(shè)計(jì)制造協(xié)同優(yōu)化解決新方案。

在第二天的專題報(bào)告中，東方晶源的技術(shù)專家?guī)眍}為《Extending DR-SEM Inspection Capacities and Applications with the Introduction of D2DB Technology》的分享。隨著半導(dǎo)體工藝技術(shù)的快速發(fā)展，使用D2D等傳統(tǒng)算法的DR-SEM在對復(fù)雜區(qū)域、更細(xì)微缺陷進(jìn)行復(fù)檢時(shí)面臨挑戰(zhàn)。D2DB將設(shè)計(jì)版圖信息作為缺陷檢測的參考，在檢測systematic defects, hard defects, soft defects和pattern drift等方面具有顯著優(yōu)勢，克服了傳統(tǒng)算法在檢測重復(fù)缺陷和系統(tǒng)缺陷的局限性。本次報(bào)告分享了東方晶源基于D2DB技術(shù)進(jìn)行缺陷檢測的具體實(shí)施過程，通過實(shí)驗(yàn)及晶圓廠驗(yàn)證，展現(xiàn)出東方晶源D2DB方法在缺陷檢測、OPC熱點(diǎn)驗(yàn)證、長期CD監(jiān)控及DTCO優(yōu)化等方面的有效性和優(yōu)勢。值得一提的是，該論文已被全球最大的非盈利性專業(yè)技術(shù)學(xué)會IEEE所收錄。

東方晶源成立至今，一直致力于解決集成電路制造良率管理問題，在計(jì)算光刻軟件及電子束量測檢測領(lǐng)域成績斐然。通過本次大會的技術(shù)分享，不僅展現(xiàn)出東方晶源在上述領(lǐng)域的絕對領(lǐng)先性，更體現(xiàn)出不斷優(yōu)化、不斷探索、不斷創(chuàng)新的企業(yè)精神。正如俞宗強(qiáng)博士所言：未來，東方晶源將繼續(xù)在HPOTM系統(tǒng)中添加更多工具，最終建立一個(gè)創(chuàng)新的平臺以提高芯片制造良率并降低成本，為國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻(xiàn)更多“晶源力量”。