援引俄羅斯塔斯社最新消息，俄羅斯自研的首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成，目前正在進(jìn)行測(cè)試。

俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng)瓦西里·什帕克（Vasily·Shpak）告訴媒體：“我們制造并組裝了第一臺(tái)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，作為澤廖諾格勒（莫斯科衛(wèi)星城）技術(shù)生產(chǎn)線的一部分，該設(shè)備可確保生產(chǎn) 350nm 的芯片！”

盡管 350nm 比現(xiàn)階段全球主流成熟制程工藝都落后不少，但在俄羅斯看來(lái)，它仍然能在汽車(chē)、能源和電信等諸多行業(yè)中發(fā)揮不小的應(yīng)用價(jià)值。

值得一提的是，據(jù)說(shuō)俄羅斯的這臺(tái)光刻機(jī)成本只需要 500 萬(wàn)盧布（當(dāng)前約合人民幣 40 萬(wàn)），要知道目前 ASML（阿斯麥）的同類(lèi)光刻機(jī)動(dòng)輒幾千萬(wàn)甚至上億人民幣。

如果該消息屬實(shí)的話，表明俄羅斯在自主發(fā)展半導(dǎo)體技術(shù)的道路上取得了巨大突破。

此前，俄羅斯政府啟動(dòng)了一項(xiàng)國(guó)家計(jì)劃，計(jì)劃到 2030 年自研出 28nm 工藝的芯片，對(duì)盡可能多的外國(guó)芯片進(jìn)行逆向工程，并培養(yǎng)本土人才從事國(guó)產(chǎn)芯片替代工作。

俄羅斯最先進(jìn)的晶圓廠只能生產(chǎn)采用 65nm 制造工藝的芯片，而且用的都是歐美的設(shè)備，隨著俄烏沖突而被封鎖。

俄羅斯科學(xué)院微結(jié)構(gòu)物理研究所副所長(zhǎng)尼古拉·奇卡洛表示，作為光刻技術(shù)的全球領(lǐng)導(dǎo)者，ASML 已研發(fā)其 EUV 光刻系統(tǒng)近 20 年，該技術(shù)已被證明非常復(fù)雜。

而且，晶圓設(shè)備不僅限于光刻機(jī)。還需要有其他類(lèi)型的設(shè)備用于執(zhí)行蝕刻、沉積、光刻膠去除、計(jì)量以及檢查操作，此外還需一些不太先進(jìn)的機(jī)器，例如超純空氣和水發(fā)生器，這些設(shè)備都來(lái)自于西方市場(chǎng)。

也就是說(shuō)，即使俄羅斯成功制造出光刻機(jī)，仍需要數(shù)百臺(tái)設(shè)備來(lái)建造一座現(xiàn)代化晶圓廠，而目前西方已經(jīng)徹底切斷了對(duì)俄羅斯的供應(yīng)。

但無(wú)論如何，俄羅斯為了實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主可控，首先加大了對(duì)光刻機(jī)領(lǐng)域的投入和支持，盡管目前 350nm 的工藝并不先進(jìn)，但對(duì)于戰(zhàn)時(shí)的俄羅斯已經(jīng)非常重要了，特別在意義上。

其實(shí)，去年瓦西里·什帕克在接受俄新社采訪時(shí)就表示，俄羅斯將在 2024 年生產(chǎn) 350nm 國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，2026 年研制出 130nm 光刻機(jī)。

“很明顯，如果不走完全程，就不可能一次性制造出薄拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的設(shè)備，” 瓦西里·什帕克表示：“目前世界上只有兩家公司擁有這種光刻技術(shù)：荷蘭的 ASML 和日本的尼康，沒(méi)有其他公司能做到這一點(diǎn)?！?/span>

不過(guò)現(xiàn)在我們已經(jīng)踏上了這條道路，不是孤軍奮戰(zhàn)，而是與白俄羅斯人一起，中國(guó)也在朝著這個(gè)方向努力，這場(chǎng)競(jìng)賽已經(jīng)開(kāi)始！他補(bǔ)充道。

瓦西里·什帕克認(rèn)為，所有微電子器件，包括微控制器、電力電子器件、電信電路、汽車(chē)電子以及許多其他器件，因?yàn)榧夹g(shù)和成本的原因，將在未來(lái)許多年內(nèi)對(duì) 65-350nm 的工藝保持需求，而且占市場(chǎng)的 60%。

俄羅斯工業(yè)和貿(mào)易部并不覺(jué)得沒(méi)有掌握更先進(jìn)的工藝有什么問(wèn)題，他們認(rèn)為 ≤45nm 的工藝只對(duì)處理器和存儲(chǔ)器有意義，而這些只占 10-15%。

對(duì)于現(xiàn)階段俄羅斯在俄烏戰(zhàn)場(chǎng)上持續(xù)巨大的消耗，這臺(tái)光刻機(jī)的問(wèn)世不僅可以使其一定程度擺脫西方制裁，更給予了俄羅斯國(guó)內(nèi)極大的信心，未來(lái)將大幅減少對(duì)外依賴(lài)。

值得一提的是，本周彭博社引述知情人士消息稱(chēng)，美國(guó)荷蘭政府人員會(huì)面時(shí)，光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）表示有能力遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電位于臺(tái)灣地區(qū)的最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)（EUV）。

2016 年首次研發(fā)成功以來(lái)，ASML 已向全球客戶賣(mài)出了兩百多臺(tái) EUV 設(shè)備，其中代工龍頭臺(tái)積電最多，而且該設(shè)備需要頻繁維護(hù)，如果沒(méi)有 ASML 的備件，它們很快就會(huì)停止工作。