英飛凌推出采用 Q-DPAK 封裝的CoolSiC? MOSFET 1200 V G2,將工業(yè)應(yīng)用功率密度提升至新高度
【2025年8月1日,德國慕尼黑訊】全球功率系統(tǒng)和物聯(lián)網(wǎng)領(lǐng)域的半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)者英飛凌科技股份公司(FSE代碼:IFX / OTCQX代碼:IFNNY)近日推出了采用頂部散熱(TSC)Q-DPAK封裝的CoolSiC? MOSFET 1200 V G2。這款新型半導(dǎo)體器件能夠提供更加出色的熱性能、系統(tǒng)效率和功率密度,專為應(yīng)對工業(yè)應(yīng)用的高性能和高可靠性要求而設(shè)計,例如電動汽車充電機、光伏逆變器、不間斷電源、電機驅(qū)動和固態(tài)斷路器等。
采用 Q-DPAK 封裝的CoolSiC? MOSFET 1200 V G2
這款CoolSiC 1200 V G2所采用的技術(shù)相較于上一代產(chǎn)品有顯著的提升,可在導(dǎo)通電阻(Rds(on))相同的情況下,開關(guān)損耗降低達25%,系統(tǒng)效率提升0.1%?;谟w凌先進的.XT擴散焊技術(shù),,G2系列產(chǎn)品的熱阻相較于G1系列降低15%以上,MOSFET溫度也降低了11%。憑借4 mΩ至78 mΩ的出色導(dǎo)通電阻和豐富的產(chǎn)品組合,設(shè)計人員能夠靈活使用,提高系統(tǒng)性能,滿足目標應(yīng)用需求。此外,新技術(shù)支持在高達200°C結(jié)溫(Tvj)下的過載運行,并具備出色的抗寄生導(dǎo)通能力,確保在動態(tài)且嚴苛的工況下實現(xiàn)可靠運行。
英飛凌CoolSiC MOSFET 1200 V G2提供單開關(guān)和雙半橋兩種Q-DPAK封裝。兩種型號均屬于英飛凌更廣泛的X-DPAK頂部散熱平臺。所有頂部散熱(TSC)版本(包括 Q-DPAK 和 TOLT)的封裝厚度統(tǒng)一為2.3 mm,具備高度的設(shè)計靈活性,使客戶能夠在單一散熱器組件下靈活擴展和組合不同產(chǎn)品。這種設(shè)計靈活性簡化了先進功率系統(tǒng)的開發(fā),便于客戶根據(jù)需求定制和擴展其解決方案。
Q-DPAK封裝通過實現(xiàn)器件頂部與散熱器之間的直接熱傳導(dǎo),顯著提升散熱性能。與傳統(tǒng)底部散熱封裝相比,這種直接熱傳導(dǎo)路徑能夠顯著提高熱傳導(dǎo)效率,使系統(tǒng)設(shè)計更加緊湊。此外,Q-DPAK封裝的布局設(shè)計大幅減少了寄生電感,對提高開關(guān)速度至關(guān)重要,有助于提升系統(tǒng)效率,并降低電壓過沖風(fēng)險。 。該封裝由于占用空間小,適用于緊湊的系統(tǒng)設(shè)計,其與自動化裝配流程的兼容性簡化了制造過程,確保了成本效益和可擴展性。