通過電源去耦保持集成電路電源低阻抗
在現(xiàn)代電子系統(tǒng)中,集成電路(IC)的性能對于整個系統(tǒng)的功能和可靠性起著至關(guān)重要的作用。而確保電源以低阻抗進(jìn)入 IC 是維持其良好性能的關(guān)鍵因素之一。電源去耦作為一種重要手段,能夠有效減少電源噪聲和紋波,保持電源的穩(wěn)定性,從而為 IC 提供純凈、低阻抗的電源輸入。
集成電路的電源需求與挑戰(zhàn)
諸如放大器、轉(zhuǎn)換器等模擬集成電路,往往具有至少兩個或更多的電源引腳。對于單電源器件,其中一個引腳一般連接到地。像 ADC 和 DAC 這類混合信號器件,可能會有模擬和數(shù)字電源電壓以及 I/O 電壓。數(shù)字 IC 如 FPGA,也可能具備多個電源電壓,例如內(nèi)核電壓、存儲器電壓和 I/O 電壓等。IC 數(shù)據(jù)手冊詳細(xì)規(guī)定了每路電源的允許范圍,包括推薦工作范圍和最大絕對值,為保證 IC 正常工作和防止損壞,必須嚴(yán)格遵循這些限制。
然而,現(xiàn)實(shí)中由于噪聲或電源紋波導(dǎo)致的電源電壓微小變化,即便仍處于推薦工作范圍內(nèi),也可能致使器件性能下降。以放大器為例,微小的電源變化會引發(fā)輸入和輸出電壓的細(xì)微變動。放大器對電源電壓變化的靈敏度通常用電源抑制比(PSRR)來量化,其定義為電源電壓變化與輸出電壓變化的比值。典型高性能放大器(如 OP1177)的 PSR 隨頻率以大約 6dB/8 倍頻程(20dB/10 倍頻程)下降。盡管在直流下 PSRR 可達(dá) 120dB,但在較高頻率下會迅速降低,此時(shí)電源線路上過多的無用能量會直接耦合至輸出。若放大器驅(qū)動負(fù)載,且電源軌上存在無用阻抗,負(fù)載電流會調(diào)制電源軌,進(jìn)而增加交流信號中的噪聲和失真。對于數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器和其他混合信號 IC,雖然數(shù)據(jù)手冊可能未給出實(shí)際的 PSRR,但其性能同樣會因電源上的噪聲而降低。電源噪聲還會以多種方式影響數(shù)字電路,如降低邏輯電平噪聲容限,因時(shí)鐘抖動產(chǎn)生時(shí)序錯誤等。
電源去耦的工作原理
在典型的 4 層 PCB 設(shè)計(jì)中,通常包含接地層、電源層、頂部信號層和底部信號層。表面貼裝 IC 的接地引腳通過引腳上的過孔直接連接到接地層,以最大程度減少接地連接中的無用阻抗。電源軌一般位于電源層,并被路由到 IC 的各個電源引腳。IC 內(nèi)產(chǎn)生的電流(表示為 IT),流過走線阻抗 Z 會導(dǎo)致電源電壓 VS 發(fā)生變化,根據(jù) IC 的 PSR,這會引發(fā)各種性能降低問題。
通過使用盡可能短的連接,將合適類型的局部去耦電容直接連接在電源引腳和接地層之間,可最大程度降低對功率噪聲和紋波的靈敏度。去耦電容在這里充當(dāng)瞬態(tài)電流的電荷庫,將瞬態(tài)電流直接分流到地,從而在 IC 上維持恒定的電源電壓。雖然回路電流路徑通過接地層,但由于接地層阻抗較低,一般不會產(chǎn)生明顯的誤差電壓。
高頻去耦電容必須盡可能靠近芯片,否則連接走線的電感將對去耦的有效性產(chǎn)生負(fù)面影響。例如,在圖 3 左側(cè)的配置中,電源引腳和接地連接都很短,是較為有效的去耦方式;而在圖 3 右側(cè),PCB 走線內(nèi)的額外電感和電阻會降低去耦方案的有效性,并且增加的封閉環(huán)路可能會引發(fā)干擾問題。
去耦電容的選擇與布局
去耦電容的類型與特性
低頻噪聲去耦通常采用電解電容(典型值為 1μF 至 100μF),作為低頻瞬態(tài)電流的電荷庫。而將低電感表面貼裝陶瓷電容(典型值為 0.01μF 至 0.1μF)直接連接到 IC 電源引腳,則可最大程度抑制高頻電源噪聲。所有去耦電容要發(fā)揮作用,必須直接連接到低電感接地層,且此連接需要短走線或過孔,以將額外串聯(lián)電感降至最低。
不同類型的電容,其特性有所不同。陶瓷電容具有較低的等效串聯(lián)電阻(ESR)和等效串聯(lián)電感(ESL),價(jià)格也較為便宜,是常用的去耦電容。鉭電容的 ESR 和 ESL 適中,但電容 / 體積比較高,常用于更高值的旁路電容,以補(bǔ)償電源線上的低頻變化。需要注意的是,對于陶瓷和鉭電容,較大的封裝通常意味著較高的 ESL。
去耦電容的自諧振頻率
實(shí)際的去耦電容并非理想元件,其阻抗特性會隨頻率變化。由于 ESL 的存在,在某個頻率下電容的阻抗會隨著頻率開始上升,這個頻率點(diǎn)被稱為自諧振頻率點(diǎn)。在自諧振頻率點(diǎn)之前,電容呈容性,能有效去耦;高于自諧振頻率時(shí),電容呈現(xiàn)感性,去耦作用下降。例如,0.1μF、封裝為 0603 的陶瓷電容器,具有 850pH 的 ESL 和 50mΩ 的 ESR,其阻抗特性在不同頻率下表現(xiàn)不同。1μF 的鉭電容器,ESL 為 2200pH,ESR 為 1.5Ω,由于其較高的電容值,開始時(shí)阻抗低于陶瓷電容,但較高的 ESR 和 ESL 使得其阻抗在 100kHz 附近變平,在 1MHz - 10MHz 高于陶瓷電容的阻抗,在 10MHz 附近高出陶瓷電容阻抗 10 倍。所以,若電路中的噪聲頻率在 10MHz 左右,0.1μF 的陶瓷電容去耦效果優(yōu)于 1μF 的鉭電容。若要旁路更高頻率的噪聲,需選擇更低 ESL 的電容,即更小封裝的電容。
去耦電容的布局原則
在布局去耦電容時(shí),要遵循最小化電阻和電感的原則。去耦電容應(yīng)盡可能靠近 IC 的電源引腳,以縮短電流路徑,減少高頻下阻礙性能的電感效應(yīng)。在多電容去耦的電路中,對于對電源穩(wěn)定要求極為苛刻的電路,如 GSM 的電源,需要多個不同容量和種類的電容。其中,越小的電容應(yīng)越靠近 GSM 的電源腳,例如 C24 是 8.2pF,離 GSM 最近,C19 是 100nf,離 GSM 較遠(yuǎn),最遠(yuǎn)的則是容量最大的 330uf 的鉭電容。此外,去耦電容通過過孔與地連通的方式也會影響去耦效果,需綜合考慮各種因素進(jìn)行折衷選擇。
其他去耦元件與方法
鐵氧體磁珠(以鎳、鋅、錳的氧化物或其他化合物制造的絕緣陶瓷)也可用于電源濾波器中去耦。在低頻下(<100kHz),鐵氧體呈感性,對低通 LC 去耦濾波器有用;在 100kHz 以上,鐵氧體呈阻性(低 Q)。鐵氧體阻抗與材料、工作頻率范圍、直流偏置電流、匝數(shù)、尺寸、形狀和溫度等因素有關(guān)。鐵氧體磁珠并非在所有情況下都必需,但它能增強(qiáng)高頻噪聲隔離和去耦效果,不過在運(yùn)算放大器驅(qū)動高輸出電流時(shí),可能需要驗(yàn)證磁珠不會飽和,因?yàn)楫?dāng)鐵氧體飽和時(shí),會變?yōu)榉蔷€性,失去濾波特性。
總結(jié)
通過電源去耦保持電源進(jìn)入集成電路的低阻抗對于 IC 的性能至關(guān)重要。合理選擇去耦電容的類型、容量和封裝,并進(jìn)行恰當(dāng)?shù)牟季?,同時(shí)結(jié)合其他去耦元件和方法,能夠有效減少電源噪聲和紋波,為 IC 提供穩(wěn)定、低阻抗的電源輸入,從而確保 IC 乃至整個電子系統(tǒng)的穩(wěn)定、可靠運(yùn)行。在實(shí)際的電路設(shè)計(jì)和 PCB 布局中,應(yīng)嚴(yán)格遵循相關(guān)原則和 IC 數(shù)據(jù)手冊的建議,以實(shí)現(xiàn)最佳的電源去耦效果。