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[導(dǎo)讀]梁德豐,錢省三,梁靜(上海理工大學(xué)工業(yè)工程研究所/微電子發(fā)展中心,上海 200093)摘要:由于半導(dǎo)體制造工藝過程的復(fù)雜性,一般很難建立其制造模型,不能對工藝過程狀態(tài)有效地監(jiān)控,所以迫切需要先進的半導(dǎo)體過程控

梁德豐,錢省三,梁靜(上海理工大學(xué)工業(yè)工程研究所/微電子發(fā)展中心,上海 200093)


摘要:由于半導(dǎo)體制造工藝過程的復(fù)雜性,一般很難建立其制造模型,不能對工藝過程狀態(tài)有效地監(jiān)控,所以迫切需要先進的半導(dǎo)體過程控制技術(shù)來嚴格監(jiān)控工藝過程狀態(tài),而SPC就是其中最重要的一種技術(shù)。本文針對SPC做了簡要概述,著重論述了根據(jù)半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝的特點來實現(xiàn)其在半導(dǎo)體晶圓廠的實際應(yīng)用。

關(guān)鍵詞:半導(dǎo)體;SPC;過程控制;控制圖

中圖分類號:TN301 文獻標識碼: A 文章編號:1003-353X(2004)03-0058-03

1 前言

近年來,半導(dǎo)體制造技術(shù)經(jīng)歷了快速的改變,技術(shù)的提升也相對地增加了工藝過程的復(fù)雜性,而大多數(shù)半導(dǎo)體制造過程包含許多非線性且復(fù)雜的化學(xué)與物理反應(yīng),難以建立其制造模型,加上檢測技術(shù)的缺乏,造成無法及時得知工藝過程狀態(tài)而難以對其進行有效監(jiān)控。因此,當半導(dǎo)體制造進入8英寸、12英寸晶圓生產(chǎn)的主流,面臨更小線寬、工藝日趨復(fù)雜的挑戰(zhàn)時,嚴格的工藝過程監(jiān)控已成為基本且重要的要求。國內(nèi)外各相關(guān)研究單位與半導(dǎo)體廠都在努力尋求如何減少制造成本、降低廢片、改善總體設(shè)備效能(Overall Equipment Effectiveness,OEE)、提高產(chǎn)品良率及產(chǎn)品效能的方法。先進的半導(dǎo)體過程控制技術(shù)(Advanced Process Control,APC)研究的目的就是有效的監(jiān)控工藝過程與機臺,以提高良率和總體設(shè)備效能。而統(tǒng)計過程控制(Statistical Process Control,SPC)是目前國內(nèi)外發(fā)展APC最常用的一種技術(shù),本文將主要論述SPC在半導(dǎo)體晶圓制造廠的應(yīng)用。

2 SPC技術(shù)概述

早期的半導(dǎo)體制造企業(yè)為保證產(chǎn)品質(zhì)量,基本上以工藝檢測和產(chǎn)品檢驗為主要手段進行產(chǎn)品的質(zhì)量監(jiān)控,很明顯這是一種事后檢測的方法,隨著各類使用半導(dǎo)體元器件的電子產(chǎn)品的質(zhì)量需求的提高,對半導(dǎo)體元器件產(chǎn)品質(zhì)量和可靠性的提高成了該行業(yè)質(zhì)量管理人員需要研究的重要課題,從80年代中期開始,以摩托羅拉為首的美國一些大型微電子企業(yè)的研究人員發(fā)現(xiàn),如果使工藝過程始終處于統(tǒng)計受控狀態(tài),將會更有效地提高產(chǎn)品質(zhì)量和可靠性,SPC技術(shù)正是適合了這樣一種需求。

SPC即統(tǒng)計過程控制是基于統(tǒng)計理論的技術(shù)和方法,通過對生產(chǎn)過程中的工藝參數(shù)質(zhì)量數(shù)據(jù)進行統(tǒng)計分析和描圖,實現(xiàn)對工藝過程穩(wěn)定性的實時監(jiān)控和預(yù)測,從而達到發(fā)現(xiàn)異常、及時改進、減少波動、保證工藝過程穩(wěn)定、產(chǎn)品總體質(zhì)量穩(wěn)定可靠之目的。

對異常波動的及時預(yù)警是SPC的最大特點,預(yù)警原理為:應(yīng)用SPC對檢測數(shù)據(jù)進行統(tǒng)計分析能夠區(qū)分生產(chǎn)過程中產(chǎn)品質(zhì)量的正常波動和異常波動,從而對生產(chǎn)過程的異常趨勢及時提出預(yù)警。即:SPC能夠在異常因素剛一露出苗頭,尚未造成不合格產(chǎn)品之前就能及時發(fā)現(xiàn),指導(dǎo)管理人員采取措施消除異常,從而極大的減少了不合格產(chǎn)品的產(chǎn)生,保證了生產(chǎn)的順暢進行,最終提高生產(chǎn)效率。

采用SPC技術(shù)可以:

(1)保證工藝過程的統(tǒng)計受控狀態(tài)。當檢測出工藝中異常原因引起波動時,立即發(fā)出警報,以便及時查找原因,采取相關(guān)糾正措施,使工藝一直處于統(tǒng)計受控狀態(tài);

(2)定量評定生產(chǎn)線、單道工序或單個工藝參數(shù)是否處于受控狀態(tài),因此特別適用于生產(chǎn)線的認證;

(3)減少對常規(guī)檢驗的依賴性,定時的觀察以及系統(tǒng)的測量方法替代了大量的檢測和驗證工作;

(4)成為表征產(chǎn)品內(nèi)在質(zhì)量的重要依據(jù)之一。在半導(dǎo)體行業(yè)界,有很多客戶要求半導(dǎo)體制造企業(yè)在提高產(chǎn)品質(zhì)量的同時還要提供一份SPC數(shù)據(jù),以證明產(chǎn)品是在受控工藝條件下生產(chǎn)的,而不是僅靠篩選檢測得到的,表明產(chǎn)品具有較高的內(nèi)在質(zhì)量和可靠性。

3 半導(dǎo)體晶圓制造廠的SPC實際應(yīng)用

3.1 半導(dǎo)體生產(chǎn)的特點

半導(dǎo)體制造是一個極其復(fù)雜的過程,從氧化擴散,光刻,刻蝕,洗滌,淀積等大約有不少于三四百個工序;特別是現(xiàn)在各類專用集成電路的需求猛增,大多數(shù)半導(dǎo)體企業(yè)又從面向庫存的生產(chǎn)方式轉(zhuǎn)向了面向訂單的生產(chǎn)方式,使晶圓車間的生產(chǎn)模式也由以前大批量的單一品種的生產(chǎn)轉(zhuǎn)為批量的多品種的生產(chǎn)模式,極大的增加了生產(chǎn)過程的復(fù)雜性。由于生產(chǎn)過程的復(fù)雜性帶來了大量的質(zhì)量數(shù)據(jù)以及對這些數(shù)據(jù)及時分析的需要,僅依靠手工控制的方法是根本無法體現(xiàn)SPC技術(shù)的及時預(yù)警性。因此在實際的半導(dǎo)體晶圓制造廠中是利用計算機輔助SPC技術(shù)來實現(xiàn)質(zhì)量控制的。

3.2 計算機輔助SPC系統(tǒng)

SPC系統(tǒng)主要通過對生產(chǎn)過程中的產(chǎn)品質(zhì)量數(shù)據(jù)進行在線、離線的采集,實現(xiàn)對生產(chǎn)質(zhì)量有關(guān)的數(shù)據(jù)進行及時、準確、有效的處理和統(tǒng)計分析,使質(zhì)量人員能在生產(chǎn)過程中及時掌握產(chǎn)品質(zhì)量的動態(tài),及時反饋控制,最終達到企業(yè)保證生產(chǎn)質(zhì)量、降低生產(chǎn)成本的目的。

整個計算機輔助SPC系統(tǒng)包括SPC數(shù)據(jù)采集網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)和數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)兩個部分:

3.2.1 數(shù)據(jù)采集網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)

以客戶/服務(wù)器結(jié)構(gòu)(C/S結(jié)構(gòu))為基本模型,包括數(shù)據(jù)庫服務(wù)器,數(shù)據(jù)采集/監(jiān)控站點,SPC監(jiān)控分析站點,SPC監(jiān)控查詢站點,SPC異常報警裝置,基于B/S(Browser/Server)結(jié)構(gòu)的遠程質(zhì)量查詢站點(選配),SPC控制圖異?;仞佈b置等幾大組成部分。圖1是國內(nèi)某半導(dǎo)體公司SPC數(shù)據(jù)采集網(wǎng)絡(luò)模型:

從模型可以看出,數(shù)據(jù)采集是以設(shè)備自動采集為主和人工鍵盤輸入為輔兩種可并發(fā)的數(shù)據(jù)采集方式,極大的加強了采集數(shù)據(jù)的及時性。這些采集到的數(shù)據(jù)將存儲在SPC數(shù)據(jù)庫服務(wù)器中并由SPC監(jiān)控和分析點對這些數(shù)據(jù)進行分析,同時把結(jié)果反饋到 SPC回饋調(diào)整裝置或報警裝置來監(jiān)控生產(chǎn)工藝過程。

3.2.2 數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)模型

SPC分析系統(tǒng)(如圖2)可提供十幾種控制或監(jiān)視圖表,計量型圖表有均值-級差圖(X-R圖),均值-標準差圖(X-S圖),單值-移動極差圖(X-MR圖),運行圖,指數(shù)加權(quán)移動均值圖(EWMA圖)等等,計數(shù)型圖表包括不合格品率圖(P圖),不合格品數(shù)圖(Pn圖),單位缺陷圖(u圖)等,還有排列圖,直方圖等,同時可提供大量統(tǒng)計參數(shù)值:總體均值,總體標準差,樣本均值,樣本標準差,Cp,Cpk, Cpl,Cpu,直方圖偏斜指數(shù)(Skewness),陡度指數(shù)(Kurtosis)等。數(shù)據(jù)查詢、總體監(jiān)控、現(xiàn)場監(jiān)控、異常報告都可通過控制圖表和各統(tǒng)計參數(shù)來表達,通過這些可以幫助用戶從不同的視角去監(jiān)控過程狀態(tài),及時發(fā)現(xiàn)問題,解決問題。

3.3 SPC技術(shù)流程

SPC技術(shù)主要是應(yīng)用數(shù)理統(tǒng)計分析手段,解決與質(zhì)量管理相關(guān)的技術(shù)問題,基本技術(shù)流程如圖3。

在SPC技術(shù)流程應(yīng)注意:

(1)關(guān)鍵工藝過程節(jié)點及關(guān)鍵工藝參數(shù)的確定,即確定氧化,淀積,刻蝕,擴散,離子注入,光刻等。

(2)工藝參數(shù)數(shù)據(jù)采集,即采集材料參數(shù),

握生產(chǎn)工藝運行情況,我們還須往意幾個問題:

(1)一般情況下,需要積累多于25組數(shù)據(jù)才能進行SPC分析,每組數(shù)據(jù)最好不少于5個,在日常生產(chǎn)中,應(yīng)保持數(shù)據(jù)采集的連續(xù)性,并對每組數(shù)據(jù)進行SPC分析,控制圖反映的過程可能有好的的異常,也可能有壞的異常,而這些異常都說明工藝過程發(fā)生了變化,均應(yīng)進行質(zhì)量分析,采取措施,直到確認工藝過程又處于統(tǒng)計受控狀態(tài)。

(2)輸人計算機的數(shù)據(jù)必須及時真實可靠,不得進行人為篩選;

(3)在數(shù)據(jù)波動比較大時,注意分析原材料、設(shè)備和環(huán)境等因素,避免盲目改變工藝條件,以免出現(xiàn)浪費。

本文摘自《半導(dǎo)體技術(shù)》

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