英特爾公布了在2013年將14納米制程技術(shù)應(yīng)用于制造中央處理器以及SoCs的計劃，以及計劃在2015年研發(fā)10納米及其以下的制程技術(shù)。

在舊金山舉行的英特爾信息技術(shù)峰會，公司高級研究員MarkBohr表示技術(shù)路標(biāo)展示了因特爾在半導(dǎo)體制造工藝技術(shù)上始終處于行業(yè)領(lǐng)頭的地位。

英特爾公布了即將到來的代號為P1272andP1273的14納米制程技術(shù)，其準(zhǔn)備于2013年投產(chǎn)。供應(yīng)商宣稱將將在三個州生產(chǎn)測試上述產(chǎn)品。

英特爾先前確認(rèn)對上述三種fab投資以應(yīng)用于14納米及更低的制程技術(shù)。

此外，英特爾宣稱對10納米，7納米，5納米制程技術(shù)的研究將開始于2015年。

2011年5月，英特爾宣稱其三維三柵級晶體管取得了突破性的進展，能夠使芯片以低電壓較少泄漏量的情況下工作，與老式的晶體管相比在表現(xiàn)性能和能源利用率方面提高了很多。新型的晶體管已應(yīng)用于第三代酷睿i系列處理器于2011年底大批量生產(chǎn)。