記者23日從中科院光電技術(shù)研究所獲悉，該所微電子專用設(shè)備研發(fā)團(tuán)隊(duì)自主研制成功紫外納米壓印光刻機(jī)。

據(jù)中科院光電所微電子裝備總體研究室主任胡松介紹，該所自主研發(fā)的新型光刻機(jī)，將納米壓印這一新型高分辨力光刻技術(shù)，與具有低成本、高效率特點(diǎn)的紫外光刻技術(shù)有機(jī)結(jié)合。

記者了解到，這套設(shè)備采用新型納米對(duì)準(zhǔn)技術(shù)，將原光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)精度由亞微米量級(jí)提升至納米量級(jí)。對(duì)準(zhǔn)是光刻設(shè)備三大核心指標(biāo)之一，是實(shí)現(xiàn)功能化器件加工的關(guān)鍵。該所在國(guó)家自然基金的連續(xù)資助下，完成基于莫爾條紋的高精度對(duì)準(zhǔn)技術(shù)自主研發(fā)，取得專利20余項(xiàng)。

“該技術(shù)在光刻機(jī)中的成功應(yīng)用突破了現(xiàn)有納米尺度結(jié)構(gòu)加工的瓶頸問(wèn)題，為高精度納米器件的加工提供了技術(shù)保障。”胡松說(shuō)。

據(jù)悉，該設(shè)備可廣泛應(yīng)用于微納流控晶片加工、微納光學(xué)元件、微納光柵、NMEMS器件等微納結(jié)構(gòu)器件的制備，具有廣闊的應(yīng)用前景，目前已完成初試和小批生產(chǎn)，并已在高校與企業(yè)用戶中推廣。

光刻機(jī)是什么

光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)(Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System.

一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

Photolithography(光刻) 意思是用光來(lái)制作一個(gè)圖形(工藝);

在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過(guò)程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過(guò)程。

光刻機(jī)的分類

光刻機(jī)一般根據(jù)操作的簡(jiǎn)便性分為三種，手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)

A 手動(dòng)：指的是對(duì)準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式，是通過(guò)手調(diào)旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來(lái)完成對(duì)準(zhǔn)，對(duì)準(zhǔn)精度可想而知不高了;

B 半自動(dòng)：指的是對(duì)準(zhǔn)可以通過(guò)電動(dòng)軸根據(jù)CCD的進(jìn)行定位調(diào)諧;

C 自動(dòng)： 指的是 從基板的上載下載，曝光時(shí)長(zhǎng)和循環(huán)都是通過(guò)程序控制，自動(dòng)光刻機(jī)主要是滿足工廠對(duì)于處理量的需要，恩科優(yōu)的NXQ8000系列可以一個(gè)小時(shí)處理幾百片wafer。