日前，蘋果一位供應商宣布計劃在2019-2020期間推出5nm處理器。臺積電目前擁有6000名研發(fā)人員負責5nm工藝，他們希望到2019年-2020年期間能夠擁有5nm芯片。這家廠商曾于4月份透露，他們將采用極紫外(EUV)光刻技術來提高產(chǎn)品性能和降低成本。臺積電指出，他們的7nm和5nm芯片能推動AR、VR、情境感知計算、AI和深度學習的發(fā)展(蘋果在WWDC主題演講中觸及的領域)，從而為智能手機和頭顯帶來創(chuàng)新功能。

但5nm處理器還有一個特殊的優(yōu)勢，它們可以帶來支持數(shù)天續(xù)航的電池。在周一，IBM Alliance表示5nm處理器將能帶來續(xù)航能力上的電池優(yōu)勢，允許設備在不充電的情況下連續(xù)運行數(shù)天。

IBM指出：“自開發(fā)具有200億個晶體管的7nm測試節(jié)點芯片以來的不到兩年時間里，科學家為在指甲大小的芯片上安裝300億個晶體管鋪平了道路。性能的提高將有助于加速認知計算、物聯(lián)網(wǎng)以及其他需要在云端處理的數(shù)據(jù)密集型應用。能耗節(jié)省同時意味著智能手機和其他移動產(chǎn)品的續(xù)航能力比當前設備多兩到三倍。”

與市面上領先的10nm技術相比，基于納米片的5nm技術可以在固定功率下提供40%的性能提升，或者在匹配性能下節(jié)省75%的功耗。這一改進能夠大大提升人力智能系統(tǒng)、虛擬現(xiàn)實和移動設備的未來需求。

用于制造7nm測試節(jié)點及其200億個晶體管的相同極紫外光刻方法被應用于納米片晶體管架構(gòu)。使用EUV光刻技術，工程師可以連續(xù)調(diào)整納米片的寬度，讓其完全置于單一制造工藝或芯片設計中。這種可調(diào)整性允許工程師對特定電路的性能和功率進行微調(diào)，而這在當前的FinFET晶體管架構(gòu)制作中不可能實現(xiàn)(受載流片高度的限制)。

由于臺積電一直在宣傳他們將在7nm處理器中采用極光紫外光刻技術，預計他們很有可能繼續(xù)在5nm處理器中使用這項技術。目前，臺積電的技術是否能媲美IBM/三星/ GlobalFoundries 5nm芯片的功耗仍不得而知。但是，臺積電很有可能向蘋果的2020 iPhone提供類似的產(chǎn)品。我們暫時還不能在這場競爭中忽略臺積電，相信這家廠商將在今年內(nèi)宣布相關消息以對抗IBM Alliance的突破。