微電子產(chǎn)業(yè)特種化學品和材料解決方案廠商英特格 (Entegris) 宣布，新一代的光罩盒已獲得半導體生產(chǎn)設備商艾司摩爾 (ASML) 的認證，可用于極紫外光 (EUV) 微影技術的芯片大量生產(chǎn)上，用以保護在制造過程中光罩的完整。

英特格表示，日前公司正式發(fā)布了下一代 EUV 1010 光罩盒，可用于以 EUV 微影技術進行大量生產(chǎn)的半導體制造上。英特格進一步指出，EUV 1010 光罩盒是透過與全球最大芯片生產(chǎn)設備制造商之一的 ASML 密切合作而開發(fā)的，已率先成為全世界第一個獲得 ASML 的認證，可用于 NXE:3400B 以及未來更先進機臺上的光罩盒產(chǎn)品。

英特格還表示，隨著半導體產(chǎn)業(yè)開始大量使用 EUV 微影技術進行先進技術節(jié)點的大量制造，保持 EUV 光罩無缺陷的要求比以往任何時候都要高。因此，英特格的 EUV 1010光 罩盒已經(jīng)通過 ASML 全面認證，可用于他們的最新一代 EUV 微影機，并展現(xiàn)對的 EUV 光罩保護能力，這其中還包括了解決最關鍵的粒子污染挑戰(zhàn)。因此，英特格的 EUV 1010 光罩盒也因此讓客戶能夠順利地使用這最先進的微影制程，來制造出產(chǎn)品所需的越來越小線寬。

而為了在 ASML 的 NXE:3400B 微影機中實現(xiàn)這些性能水準，英特格開發(fā)出使用于接觸光罩和控制環(huán)境上的新型技術。英特格晶圓和光罩處理副總裁 Paul Magoon 表示，EUV 1010 代表了英特格的產(chǎn)品在改進缺陷率方面的重大突破，使得為先進技術節(jié)點實施的客戶，可以專注于提高效率和產(chǎn)量。而且，與 ASML 的共同開發(fā)和測試，也確保 EUV 1010 可符合最先進的 EUV 微影機的要求。