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[導(dǎo)讀]這節(jié)我們主要了解半導(dǎo)體的導(dǎo)電特性。理解PN結(jié)及其單向?qū)щ娦?。熟悉半?dǎo)體二極管的伏安特性及主要參數(shù)。熟悉穩(wěn)壓管工作原理、伏安特性及主要參數(shù)。深刻理解晶體管的電流放大原理,熟悉輸入和輸出特性及主要參數(shù)。了解

這節(jié)我們主要了解半導(dǎo)體的導(dǎo)電特性。理解PN結(jié)及其單向?qū)щ娦?。熟悉半?dǎo)體二極管的伏安特性及主要參數(shù)。熟悉穩(wěn)壓管工作原理、伏安特性及主要參數(shù)。深刻理解晶體管的電流放大原理,熟悉輸入和輸出特性及主要參數(shù)。了解場效應(yīng)管的工作原理、轉(zhuǎn)移特性、輸出特性及主要參數(shù)。

1、半導(dǎo)體要求達(dá)到“識記”層次。

2、PN結(jié),要求達(dá)到“領(lǐng)會”層次。

3、二極管,要求達(dá)到“領(lǐng)會”層次。

4、穩(wěn)壓管,要求達(dá)到“領(lǐng)會”層次。

5、晶體管,要求達(dá)到“領(lǐng)會”層次。

6、場效應(yīng)管,要求達(dá)到“領(lǐng)會”層次。

重點(diǎn):二極管、穩(wěn)壓管和晶體三極管。

難點(diǎn):場效應(yīng)管

1. 本征半導(dǎo)體

根據(jù)物體導(dǎo)電能力(電阻率)的不同劃分為導(dǎo)體、絕緣體和半導(dǎo)體。典型的半導(dǎo)體有硅Si和鍺Ge以及砷化鎵GaAs等。

本征半導(dǎo)體是—種化學(xué)成分純凈、結(jié)構(gòu)完整的半導(dǎo)體。制造半導(dǎo)體器件的半導(dǎo)體材料的純度要達(dá)到99.9999999%,常稱為"九個(gè)9"。它在物理結(jié)構(gòu)上呈單晶體形態(tài)。

(1) 本征半導(dǎo)體的熱敏性、光敏性和摻雜性

① 熱敏性、光敏性—本質(zhì)半導(dǎo)體在溫度升高或光照情況下,導(dǎo)電率明顯提高。

② 摻雜性—在本征半導(dǎo)體中摻入某種特定的雜質(zhì),成為雜質(zhì)半導(dǎo)體后,其導(dǎo)電率會明顯的發(fā)生改變。

(2) 電子空穴對

在絕對溫度0K時(shí),半導(dǎo)體中沒有自由電子。當(dāng)溫度升高或受到光的照射時(shí),將有少數(shù)電子能掙脫原子核的束縛而成為自由電子,流下的空位稱為空穴,這一現(xiàn)象稱為本征激發(fā)(也稱熱激發(fā))。在本征半導(dǎo)體中自由電子和空穴是同時(shí)成對出現(xiàn)的,稱為電子空穴對。游離的部分自由電子也可能回到空穴中去,稱為復(fù)合。本征激發(fā)和復(fù)合在一定溫度下會達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡。自由電子和空穴在半導(dǎo)體中都是導(dǎo)電粒子,稱它們?yōu)檩d流子。

2. N型半導(dǎo)體和P型半導(dǎo)體

(1) N型半導(dǎo)體

在本征半導(dǎo)體中摻入五價(jià)雜質(zhì)元素,例如磷,可形成N型半導(dǎo)體,也稱電子型半導(dǎo)體。因五價(jià)雜質(zhì)原子中只有四個(gè)價(jià)電子能與周圍四個(gè)半導(dǎo)體原子中的價(jià)電子形成共價(jià)鍵,而多余的一個(gè)價(jià)電子因無共價(jià)鍵束縛而很容易形成自由電子。在N型半導(dǎo)體中自由電子是多數(shù)載流子(多子),它主要由雜質(zhì)原子提供;空穴是少數(shù)載流子(少子), 由熱激發(fā)形成。

(2)P型半導(dǎo)體

在本征半導(dǎo)體中摻入三價(jià)雜質(zhì)元素,如硼、鎵、銦等形成了P型半導(dǎo)體,也稱為空穴型半導(dǎo)體。因三價(jià)雜質(zhì)原子在與硅原子形成共價(jià)鍵時(shí),缺少一個(gè)價(jià)電子而在共價(jià)鍵中留下一空穴。P型半導(dǎo)體中空穴是多數(shù)載流子,主要由摻雜形成;電子是少數(shù)載流子,由熱激發(fā)形成。

根據(jù)物體導(dǎo)電能力(電阻率)的不同,來劃分導(dǎo)體、絕緣體和半導(dǎo)體。

半導(dǎo)體的電阻率為10-3~10-9 ??cm。

典型的半導(dǎo)體有硅Si和鍺Ge以及砷化鎵GaAs等。

4.1.1 本征半導(dǎo)體及其導(dǎo)電性

本征半導(dǎo)體——化學(xué)成分純凈的半導(dǎo)體。

制造半導(dǎo)體器件的半導(dǎo)體材料的純度要達(dá)到99.9999999%,常稱為“九個(gè)9”。它在物理結(jié)構(gòu)上呈單晶體形態(tài)。

(1) 本征半導(dǎo)體的共價(jià)鍵結(jié)構(gòu)

硅和鍺是四價(jià)元素,在原子最外層軌道上的四個(gè)電子稱為價(jià)電子。它們分別與周圍的四個(gè)原子的價(jià)電子形成共價(jià)鍵。共價(jià)鍵中的價(jià)電子為這些原子所共有,并為它們所束縛,在空間形成排列有序的晶體。這種結(jié)構(gòu)的立體和平面示意圖見圖01.01。

 

 

(a) 硅晶體的空間排列 (b) 共價(jià)鍵結(jié)構(gòu)平面示意圖

圖01.01 硅原子空間排列及共價(jià)鍵結(jié)構(gòu)平面示意圖

(2) 電子空穴對

當(dāng)導(dǎo)體處于熱力學(xué)溫度0 K時(shí),導(dǎo)體中沒有自由電子。當(dāng)溫度升高或受到光的照射時(shí),價(jià)電子能量增高,有的價(jià)電子可以掙脫原子核的束縛,而參與導(dǎo)電,成為自由電子。這一現(xiàn)象稱為本征激發(fā)(也稱熱激發(fā))。

自由電子產(chǎn)生的同時(shí),在其原來的共價(jià)鍵中就出現(xiàn)了一個(gè)空位,原子的電中性被破壞,呈現(xiàn)出正電性,其正電量與電子的負(fù)電量相等,人們常稱呈現(xiàn)正電性的這個(gè)空位為空穴??梢娨驘峒ぐl(fā)而出現(xiàn)的自由電子和空穴是同時(shí)成對出現(xiàn)的,稱為電子空穴對。游離的部分自由電子也可能回到空穴中去,稱為復(fù)合,如圖01.02所示。本征激發(fā)和復(fù)合在一定溫度下會達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡。

 

 

圖01.02 本征激發(fā)和復(fù)合的過程

(3) 空穴的移動(dòng)

自由電子的定向運(yùn)動(dòng)形成了電子電流,空穴的定向運(yùn)動(dòng)也可形成空穴電流,它們的方向相反。只不過空穴的運(yùn)動(dòng)是靠相鄰共價(jià)鍵中的價(jià)電子依次充填空穴來實(shí)現(xiàn)的。

 

 

圖01.03 空穴在晶格中的移動(dòng)(動(dòng)畫1-2)

4.1.2 雜質(zhì)半導(dǎo)體

在本征半導(dǎo)體中摻入某些微量元素作為雜質(zhì),可使半導(dǎo)體的導(dǎo)電性發(fā)生顯著變化。摻入的雜質(zhì)主要是三價(jià)或五價(jià)元素。摻入雜質(zhì)的本征半導(dǎo)體稱為雜質(zhì)半導(dǎo)體。

(1) N型半導(dǎo)體

在本征半導(dǎo)體中摻入五價(jià)雜質(zhì)元素,例如磷,可形成N型半導(dǎo)體,也稱電子型半導(dǎo)體。

因五價(jià)雜質(zhì)原子中只有四個(gè)價(jià)電子能與周圍四個(gè)半導(dǎo)體原子中的價(jià)電子形成共價(jià)鍵,而多余的一個(gè)價(jià)電子因無共價(jià)鍵束縛而很容易形成自由電子。在N型半導(dǎo)體中自由電子是多數(shù)載流子,它主要由雜質(zhì)原子提供;空穴是少數(shù)載流子, 由熱激發(fā)形成。

提供自由電子的五價(jià)雜質(zhì)原子因帶正電荷而成為正離子,因此五價(jià)雜質(zhì)原子也稱為施主雜質(zhì)。N型半導(dǎo)體的結(jié)構(gòu)示意圖如圖01.04所示。

 

 

圖01.04 N型半導(dǎo)體的結(jié)構(gòu)示意圖

(2) P型半導(dǎo)體

在本征半導(dǎo)體中摻入三價(jià)雜質(zhì)元素,如硼、鎵、銦等形成了P型半導(dǎo)體,也稱為空穴型半導(dǎo)體。

因三價(jià)雜質(zhì)原子在與硅原子形成共價(jià)鍵時(shí),缺少一個(gè)價(jià)電子而在共價(jià)鍵中留下一空穴。P型半導(dǎo)體中空穴是多數(shù)載流子,主要由摻雜形成;電子是少數(shù)載流子,由熱激發(fā)形成。

空穴很容易俘獲電子,使雜質(zhì)原子成為負(fù)離子。三價(jià)雜質(zhì)因而也稱為受主雜質(zhì)。P型半導(dǎo)體的結(jié)構(gòu)示意圖如圖01.05所示。

 

 

圖01.05 P型半導(dǎo)體的結(jié)構(gòu)示意圖

4.1.3 雜質(zhì)對半導(dǎo)體導(dǎo)電性的影響

摻入雜質(zhì)對本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電性有很大的影響,一些典型的數(shù)據(jù)如下:

T=300K 室溫下,本征硅的電子和空穴濃度為:

n = p =1.4×1010/cm3

本征硅的原子濃度: 4.96×1022 /cm3

摻雜后,N 型半導(dǎo)體中的自由電子濃度為: n=5×1016 /cm3

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