Mentor Graphics公司(納斯達克代碼：MENT)日前宣布，宏捷科技股份有限公司(AWSC)已經(jīng)選擇Calibre® nmDRC™和nmLVS™產(chǎn)品作為其針對手機和其他無線應用中砷化鎵集成電路的金級核簽物理驗證解決方案。作為其提供的代工服務的一部分，AWSC將為客戶提供Calibre設計規(guī)則檢查，以幫助他們確保在交付AWSC投產(chǎn)之前，他們的設計是無瑕疵并滿足所有生產(chǎn)要求的。

“我們將新服務轉移至Calibre納米平臺，主要是利用它所具有而其他產(chǎn)品不能提供的高效命令和獨特功能，如基于方程的DRC，該功能使得射頻應用中復雜的設計規(guī)則更易實現(xiàn)”，AWSC產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)理路易斯陸(Louis Lu)表示，“Calibre正被我們增速最快的客戶群體廣泛使用，它可以無縫地被客戶應用于任何設計流程之中，包括安捷倫ADS射頻設計平臺。與此同時，Mentor能夠給我們提供高層次的產(chǎn)品支持和應用知識，這在我們的決策制定中起到了很重要的作用。”

“我們很高興AWSC為最先進的射頻集成電路選擇了Calibre納米平臺”，Mentor Graphics的Calibre代工項目主任Shu-Wen Chang表示。“AWSC選擇Calibre納米平臺用于射頻應用中的先進砷化鎵集成電路，這符合利用最先進的Calibre技術，將其應用到更大的特征尺寸之中這一全球化的大趨勢。“我們共同的客戶正通過最初為簡單幾何數(shù)據(jù)開發(fā)的流程推進更復雜的設計，尤其體現(xiàn)在移動應用程序(如智能手機，平板電腦等)中，AMS/RF正變得越來越重要。”

AWS正在使用的其中一項高級功能是Calibre nmDRC產(chǎn)品中基于方程的DRC設備，它填補了傳統(tǒng)的DRC和DFM過程仿真器之間的空白。在以往，一些設計規(guī)則太復雜，難以用傳統(tǒng)的測量方法和規(guī)則表捕獲。而基于方程的DRC允許這些規(guī)則通過復雜的多變量方程被表述出來，使復雜的二維和三維相互作用的特征能夠被精確地描述出來，而這些特征會對可制造性產(chǎn)生直接影響。與此同時，基于方程的DRC為用戶帶來了擴展性和快速的運行時間，可體驗一整套新的設計和過程的相互作用。它還提供了精確的數(shù)值反饋從而使用戶進行可靠的設計權衡，并迅速確定最佳的方案。