圍繞450mm晶圓和EUV（Extreme Ultraviolet，超紫外線）曝光等新一代半導(dǎo)體制造技術(shù)的動(dòng)向日趨活躍。2012年7月，全球最大的曝光設(shè)備廠商——荷蘭阿斯麥（ASML）宣布，將從半導(dǎo)體廠商獲得總額約為1300億日元的援助，以推進(jìn)技術(shù)開發(fā)。同時(shí)該公司還公布了向客戶企業(yè)出售最多25％的股份、接受其投資的計(jì)劃。該公司將通過上述措施加速450mm晶圓技術(shù)和EUV曝光技術(shù)的開發(fā)，建立可在2018年前后開始采用這些技術(shù)生產(chǎn)半導(dǎo)體器件的環(huán)境。

最先參與這項(xiàng)計(jì)劃的是英特爾。英特爾除了收購阿斯麥15％股份的以外，還將向其提供約800億日元的研發(fā)費(fèi)用。之后，臺(tái)積電（TSMC，TaiwanSemiconductor Manufacturing）也加入了該計(jì)劃。臺(tái)積電將收購阿斯麥5％的股份，并提供約270億日元的研發(fā)費(fèi)用。此外，似乎三星電子也在考慮向阿斯麥投資。英特爾還將對(duì)全球第二大曝光設(shè)備企業(yè)尼康提供支援，用于開發(fā)450mm晶圓的設(shè)備等。

半導(dǎo)體廠商向設(shè)備廠商出資
英特爾和臺(tái)積電將入股全球最大的曝光設(shè)備企業(yè)阿斯麥，同時(shí)還將為450mm晶圓的設(shè)備和EUV曝光設(shè)備提供研發(fā)資金。而且，三星等可能也會(huì)加入到這一計(jì)劃。英特爾估計(jì)還會(huì)向全球第二大曝光設(shè)備企業(yè)尼康提供規(guī)模達(dá)到數(shù)百億日元的資金援助。（攝影：阿斯麥）

上述動(dòng)向表明，新一代制造技術(shù)的開發(fā)負(fù)擔(dān)很大。由于僅靠設(shè)備廠商難以維持足夠的開發(fā)資金，因此希望盡快利用這些技術(shù)的半導(dǎo)體廠商開始提供支持。原來設(shè)備業(yè)界對(duì)450mm晶圓技術(shù)一直持消極態(tài)度，而現(xiàn)在認(rèn)為“今后450mm晶圓技術(shù)的開發(fā)將全面啟動(dòng)”（大型制造裝置廠商）的觀點(diǎn)越來越強(qiáng)烈。原因是曝光設(shè)備支持450mm晶圓后，可以更加容易地推進(jìn)開發(fā)周邊工藝的設(shè)備。

少數(shù)半導(dǎo)體廠商向設(shè)備廠商提供“資助”，產(chǎn)生了新一代制造設(shè)備將優(yōu)先供應(yīng)給這些廠商的可能性。NAND閃存巨頭東芝等將采取何種行動(dòng)成為業(yè)界關(guān)注的焦點(diǎn)。（記者：大下 淳一，《日經(jīng)電子》）