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[導(dǎo)讀]晶圓檢測設(shè)備廠漢民微測科技(漢微科:3658)看準(zhǔn)晶圓制程微縮趨勢,傳統(tǒng)光學(xué)檢測上將遭遇到物理極限,率先開發(fā)電子束(E-Beam)檢測技術(shù),自2003年正式成立以來歷經(jīng)6年虧損,在去(2010)年順利由虧轉(zhuǎn)盈;除出貨給臺積電(

晶圓檢測設(shè)備廠漢民微測科技(漢微科:3658)看準(zhǔn)晶圓制程微縮趨勢,傳統(tǒng)光學(xué)檢測上將遭遇到物理極限,率先開發(fā)電子束(E-Beam)檢測技術(shù),自2003年正式成立以來歷經(jīng)6年虧損,在去(2010)年順利由虧轉(zhuǎn)盈;除出貨給臺積電(2330)、Samsung等晶圓大廠之外,漢微科更在今年敲入美商Micron的檢測設(shè)備供應(yīng)鏈,法人估漢微科今年全年EPS將有機(jī)會超過13元水準(zhǔn)。
漢微科成立于2003年,看準(zhǔn)晶圓制程縮微趨勢方興未艾,傳統(tǒng)的光學(xué)(可見光與不可見光)檢測設(shè)備將不敷制程持續(xù)縮微化的晶圓廠所需,因此從成立以來即鎖定電子束檢測技術(shù)持續(xù)開發(fā),在2004年透過并購美商Hermes Micronvision Inc.取得核心技術(shù),并在同年開發(fā)、售出第一臺自制的電子束檢測設(shè)備,打破過去由美、日大廠壟斷的電子束檢測設(shè)備市場。
隨著晶圓廠大力推動將制程縮微到45奈米以下的階段,傳統(tǒng)檢測設(shè)備所采用的可見光、紫外光(UV)、深紫外光(DUV)技術(shù),受限于物理限制,將無法因應(yīng)晶圓內(nèi)部孔隙缺陷(via defect)檢測所需,因此精度更高的電子束檢測技術(shù),就成為下一個世代的晶圓檢測設(shè)備技術(shù)趨勢所在。
電子束檢測技術(shù),乃是透過電子束激發(fā)晶圓表面電子,并以電子偵測器搜集資訊、制作晶圓表面微觀影像后進(jìn)行比對,判斷晶圓是否在制造過程中有產(chǎn)生缺陷。對于目前晶圓廠紛紛將制程轉(zhuǎn)移至45奈米的趨勢,電子束檢測技術(shù)將可確保在高精密度的晶圓制程中,產(chǎn)品良率仍能獲得保證。
漢微科從2004年推出第一臺電子束檢測設(shè)備以來,已經(jīng)取得71項(xiàng)有關(guān)檢測原理、制程、演算法的專利。其中,由于演算法直接決定了電子束檢測機(jī)臺的掃描敏感度與效率,漢微科的演算法專利,亦確保了其較同業(yè)產(chǎn)品更佳的運(yùn)作效能。
漢微科的電子束晶圓檢測設(shè)備所采用的電子槍、電子模組、供電設(shè)備等重要零組件,均是自行研發(fā)、生產(chǎn)。在半導(dǎo)體制程持續(xù)縮微至40奈米,甚至2012年28奈米就可望成為制程主流的趨勢之下,全球晶圓廠對于電子束檢測設(shè)備的需求,一年將以增加60臺的速度穩(wěn)健成長,漢微科亦將以其領(lǐng)先業(yè)界的技術(shù),持續(xù)成長。
漢微科成立以來,因機(jī)臺開發(fā)、推動行銷的發(fā)酵速度較慢,到2010年上半年為止都仍陷于虧損,不過2010年下半年在臺積電、Samsung等大客戶展開擴(kuò)廠動作支撐,漢微科在2010年下半年獲利高達(dá)6.54億元、半年EPS高達(dá)15.52元,順利推升全年獲利轉(zhuǎn)虧為盈,去年全年獲利為2.51億元,EPS為5.69元。
而今年上半年,漢微科營收為11.04億元,較2010年同期的6383萬元暴增16倍,毛利率66.7%,營益率27.5%;稅前盈余2.85億元,稅后盈余2.61億元,EPS為4.35元。由于漢微科也已順利打入美商Micron、韓商Hynix的設(shè)備供應(yīng)鏈,客戶結(jié)構(gòu)涵蓋全球半導(dǎo)體大廠,隨著下半年機(jī)臺集中出貨、認(rèn)列營收,法人看好漢微科下半年獲利可較上半年翻倍,全年EPS可望超過13元。
漢微科的檢測設(shè)備技術(shù)目前已涵蓋90奈米、65奈米,及45奈米制程的檢測設(shè)備開發(fā)與量產(chǎn),并開始朝32、22奈米以下制程的檢測機(jī)臺推進(jìn),而在客戶開發(fā)方面,2012年將鎖定IBM、Global Foundry等半導(dǎo)體大廠,估可分散客戶集中風(fēng)險。




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