外界一直認(rèn)為東芝(Toshiba)會從2011年第3季啟動18寸晶圓開發(fā)計(jì)劃，但這項(xiàng)計(jì)劃很有可能延期。老早表明要全速進(jìn)軍18寸晶圓技術(shù)的三星電子(SamsungElectronics)，在整體業(yè)績表現(xiàn)不佳的狀況下，態(tài)度亦轉(zhuǎn)為慎重。

半導(dǎo)體晶圓直徑從2寸一路演進(jìn)到現(xiàn)行最大的12寸，未來18寸晶圓投產(chǎn)后，1片18寸晶圓產(chǎn)出的晶片數(shù)，將是12寸晶圓的2倍；換言之，晶圓尺寸越大，越有助于降低積體電路的制造成本。

因此臺積電、英特爾(Intel)及三星等3家半導(dǎo)體巨頭，從2003年起就開始發(fā)展大尺寸晶圓，企圖擠下資金不夠雄厚的業(yè)者。2008年3家公司發(fā)表共同聲明，說2012年將是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進(jìn)入18寸晶圓制造的適當(dāng)時機(jī)。

東芝向來以微細(xì)化制造技術(shù)見長，對大尺寸晶圓始終采取保留態(tài)度，但NANDFlash領(lǐng)域的頭號勁敵三星，在發(fā)表進(jìn)軍18寸晶圓技術(shù)之后，東芝迫于情勢只好跟進(jìn)。業(yè)界猜測東芝2011年第3季將開始會有具體動作。

然面對2011年連續(xù)2季虧損，三星改以減少產(chǎn)能及資本支出因應(yīng)。東芝見三星縮手，開始思考18寸晶圓產(chǎn)線的必要性，傾向省下投產(chǎn)經(jīng)費(fèi)，專注于細(xì)微化制程的研發(fā)。

事實(shí)上，以18寸晶圓投產(chǎn)能夠降低的?言說A遠(yuǎn)超過新世代制程。曝光設(shè)備現(xiàn)正面臨20奈米世代的瓶頸，極紫外光(ExtremeUltraviolet；EUV)技術(shù)成為眾所期待的新星。EUV是下一代半導(dǎo)體光刻技術(shù)，目前已經(jīng)有多家企業(yè)引進(jìn)EUV微縮制程機(jī)臺，但購置機(jī)臺費(fèi)用相當(dāng)高昂，而且效率不佳。業(yè)界人士表示，如果細(xì)微化制程走到死胡同，大尺寸晶圓就是廠商唯一的選擇，這樣看來18寸晶圓的量產(chǎn)時期訂為2015年絕對不算太早。

然而發(fā)展18寸晶圓，就代表設(shè)備商必須大手筆投資研發(fā)，花費(fèi)最多將達(dá)到1,000=美元，負(fù)擔(dān)十分沉重。

2011年1月，臺機(jī)電宣布啟動18寸晶圓廠投資計(jì)劃，預(yù)計(jì)2013年導(dǎo)入試產(chǎn)線，2015年以20奈米開始量產(chǎn)。英特爾正在興建18寸廠，地點(diǎn)屬意該公司先進(jìn)制程的發(fā)源地美國奧勒岡州，預(yù)定2013年完成，看來要達(dá)成2012年開始量產(chǎn)的目標(biāo)，已經(jīng)是不可能的任務(wù)，如果三星和東芝再抽腿，半導(dǎo)體業(yè)界邁進(jìn)18寸晶圓的速度將更為緩慢。