Cymer迄今已出貨四套3100光源。其3100光源功率為100W，每小時(shí)吞吐量約60片晶圓。但該公司預(yù)計(jì)2012年可開始量產(chǎn)出貨3300光源，功率提高到250W，每小時(shí)吞吐量則提高到了100~120片晶圓。“這些產(chǎn)品規(guī)格是我們與ASML共同制定，”Cymer 公司微影應(yīng)用總監(jiān)Benjamin Lin說(shuō)。

不久前，業(yè)界還認(rèn)為光源功率的提升是實(shí)現(xiàn)EUV量產(chǎn)應(yīng)用的一大阻礙，但業(yè)界廠商的努力，看來(lái)可望加速達(dá)到此一目標(biāo)。

EUV 目前仍是下一代微影術(shù)(NGL)的首選。晶片產(chǎn)業(yè)開始采用EUV的關(guān)鍵，是其吞吐量指標(biāo)必須符合成本效益，其中光源又是驅(qū)動(dòng)吞吐量的關(guān)鍵。而從目前的技術(shù)來(lái)看，“我們采用的雷射激發(fā)電漿型(LPP)光源技術(shù)，是實(shí)現(xiàn)功率調(diào)節(jié)的最佳方案，”Lin說(shuō)。

與另一種放電激發(fā)電漿型(DPP)技術(shù)相比，“LPP擁有機(jī)臺(tái)較小、易于發(fā)展大功率、更高重復(fù)頻率，以及可透過(guò)雷射光源的提高來(lái)進(jìn)行更好調(diào)節(jié)等特性，”他表示。

該公司表示，透過(guò)和晶片制造商的直接合作，將EUV技術(shù)導(dǎo)入晶圓廠試產(chǎn)線，將加快該技術(shù)的成熟腳步，為邁入更小制程節(jié)點(diǎn)的晶圓制造提供避免昂貴雙重曝光步驟的方案。 (鄧榮惠)