[導讀]在本周召開的TSMC2011技術會議上,臺積電公司透露了更多有關450mm技術方面的進展和內幕消息。如我們此前所報道的,臺積電目前正積極推進 450mm技術的發(fā)展,一般認為,臺積電積極推進450mm技術的主要目的是降低芯片的
在本周召開的TSMC2011技術會議上,臺積電公司透露了更多有關450mm技術方面的進展和內幕消息。如我們此前所報道的,臺積電目前正積極推進 450mm技術的發(fā)展,一般認為,臺積電積極推進450mm技術的主要目的是降低芯片的生產成本,力圖拉開與Globalfoundries,三星,聯電 等公司的差距。
不過按照臺積電研發(fā)副總裁蔣尚義在這次會議上的說法,臺積電推進450mm技術其實還有另外一個重要原因,那就是這項技術可以減小臺積電需要雇傭的工程師的人數,從而進一步降低生產的成本。蔣尚義告訴EEtimes網站的記者說,在進入450mm的第一個10年期內,臺積電需要的工程師人數可可控制在7000人以下。
按照他的說法,臺積電之所以要推廣450mm技術主要有兩個因素,其一是臺積電認為隨著時間的發(fā)展,芯片制造廠將越來越難吸引到高素質的工程師加盟。其二是450mm技術的啟用,可以減小為滿足客戶訂單需求所需開設的芯片廠數量,相比300mm芯片廠而言,450mm工廠的產能可提高1.8倍以上。
更少的工廠自然意味著工程師人數的減少。不過另外一方面,隨著制程工藝的發(fā)展,臺積電還將繼續(xù)增加對研發(fā)和資本方面的投資力度。舉例而言,450mm工廠所需要的資金投入大概在100億美元左右,而且450mm工廠的設備用投入也將大幅增長。
另外,與外界此前的猜測一致,蔣尚義表示臺積電450mm技術的切入點將定在20nm節(jié)點制程。按臺積電原來的計劃,他們將在位于新竹的Fab12工廠首先安裝450mm試產產線,該產線將制作基于20nm制程的芯片產品,臺積電希望2013-2014年間這條試產線能夠啟用。同一時期,臺積電其它300mm工廠則將開始生產基于20nm制程的芯片產品,屆時20nm產品的主力廠仍將是300mm芯片廠。
新竹的450mm試產線建成使用之后,臺積電計劃在臺中Fab15工廠建設其首個450mm量產線,量產日期則定在2015-2016年間。
按照原來的計劃,臺積電的450mm產線將逐步增加20nm芯片產品的產能,并計劃逐步遷移到14nm節(jié)點制程,在14nm節(jié)點制程,臺積電將改用Finfet結構晶體管。
由此可見,臺積電14nm制程Finfet結構芯片產品的量產工廠將定在Fab15工廠。
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