光源對于光刻機的重要性不言而喻，沒有光源的匹配，一切圖形成像都無從談起。從1986年開始，Cymer正式進入半導體產業(yè)，目前已有超過3500套光源安裝在世界各地的光刻設備上。Cymer所占的市場份額已近70%，儼然已成為世界光源制造領域的領頭羊。

“平板電腦和智能手機等新應用激發(fā)起了市場的熱情，兩者的年增長率分別有望超過50%和28%。這股市場熱潮極有可能延續(xù)至2014年，同樣也將驅使半導體新片制造繼續(xù)快速增長?！盋ymer市場及光刻應用副總裁Nigel Farrar表示，“Logic和Foundry將會繼續(xù)為32/28nm擴大產能，65/45nm產品依然會保持現有的需求。但是我們也看到，由于新技術的成本高，第一梯隊與第二梯隊之間的距離正在進一步拉大。”

DUV依然是目前絕大多數新片制造商所采用的光刻設備，Cymer除已有的優(yōu)勢外，還為雙重掩膜應用開發(fā)了60－90W可調節(jié)的power管理產品XLR 600i，以及可根據曝光要求而調節(jié)的30－50W光源 7010。

“對于新片制造商來說，提高生產力、降低成本是永恒的追求。在光源系統(tǒng)中，激光的產生是依靠氣體激發(fā)進行的。而氣體做為耗材，在整個生產過程中需要不斷補充，由此產生的停機維護時間是不小的浪費。針對這一問題，Cymer研發(fā)了iGLX產品，它可進行自動的氣體供給優(yōu)化，不再需要人工進行氣體補充，從而提高了設備的生產能力?！盢igel Farrar說。

每當人們談及EUV的挑戰(zhàn)時，光源功率總是逃不開的話題。根據Cymer的技術發(fā)展路線圖，在2011年量產的第一階段，Cymer提供的EUV光源功率將>100W；第二階段為2011-2013，功率將>250W；到了第三階段，即2013-2016年，功率將大于350W。最近，Cymer已向ASML出貨了第三套3100EUV光源。與此同時，2010年Q4第一套EUV3100光源已安裝于一家存儲器制造商的生產線上。EUV的發(fā)展一路上伴隨著的是爭議和高研發(fā)成本，Nigel Farrar對EUV的未來應用表示非常樂觀，并會繼續(xù)EUV的研發(fā)投入，在2011年會實現LPP EUV光源的商品化。

?HVMⅠ?HVMⅡ?HVMⅢ

Driver Laser Power (kW)?25?35?37

In-band CE(%)?3?3.5?4

Collection Efficiency (sr)?5?5.5?5.5

Collector Reflectivity (%)?50?50?50

Clean EUV Power (W)?>100?>250?>350

Cymer EUV Source Power Roadmap

早在2005年，Cymer即開始投入FPD和LED領域。有機發(fā)光二極管顯示器(OLED)的大規(guī)模量產在很大程度上是因為缺乏低成本的低溫多晶硅制程而有所延宕，Cymer的TCZ細光束結晶激光回火工具填補了這項空隙?！癈ymer公司的光源一直用于產生更小的集成電路圖形，但是利用 Cymer公司在市場上領先的準分子光源技術，可制造出適用于低溫多晶硅(LTPS)的細光束結晶激光設備。不僅提升了OLED制造的產量與質量、節(jié)省了費用，同事也拓展了Cymer的技術應用領域?！睋?， Cymer的第二套TCZ Gen 4設備已安裝在一位亞洲客戶生產線。

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