在去年九月底的舊金山秋季IDF 2009論壇上，英特爾第一次向世人展示了22nm工藝晶圓，并宣布將在2011年下半年發(fā)布相關(guān)產(chǎn)品。
當然了，新型半導體工藝的實現(xiàn)并不是英特爾一家就能做到的，背后默默貢獻半導體設備的功臣卻往往不為人所知。Arete Research LLC公司的分析師Jagadish Iyer在一份報告中指出，英特爾即將最終決定22nm光刻工藝設備的供應商，最終入圍的是荷蘭ASML Holding NV和日本尼康兩家。
其實在更早的45nm世代，ASML和尼康也曾雙雙成為英特爾的光刻設備供應商，但在32nm節(jié)點上英特爾首次應用了沉浸式光刻技術(shù)，只有尼康一家提供相關(guān)設備，如今ASML又要回來了。
此番ASML提供的光刻機為“NXT:1950i”，每臺平均售價4000萬歐元(5440萬美元)，負責40%的前道(FEOL)光刻層;尼康的光刻機則是“S620D”，報價3000萬美元，負責60%的后道(BEOL)光刻層。英特爾的22nm工藝將有45個光刻層，其中55%需要進行沉浸式光刻。
在22nm工藝上，英特爾會繼續(xù)使用193nm沉浸式光刻，而最近披露的一份路線圖顯示它會一直延續(xù)到11nm工藝節(jié)點，這也就意味著極紫外(EUV)光刻（不少狂熱者可以以此推測人類半導體工業(yè)的制程極限了）又被推后了。
Jagadish Iyer估計到今年底的時候英特爾能每月生產(chǎn)大約5000塊22nm晶圓，2011-2012年間四座晶圓廠全力開工，每座每月可生產(chǎn)大約4.5萬塊22nm晶圓，一個月合計18萬塊左右。
下載文檔據(jù)業(yè)內(nèi)消息，昨天半導體光刻機供應商荷蘭ASML公司發(fā)布了今年Q3季度的財報數(shù)據(jù)， 其中銷售額和利潤均好于預期，凈預訂數(shù)據(jù)更是創(chuàng)新紀錄。
關(guān)鍵字： ASML據(jù)彭博社2月9日的消息，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）警告稱，一家此前被指控竊取其商業(yè)機密的中國公司的關(guān)聯(lián)公司已開始銷售疑似侵犯其知識產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品。
關(guān)鍵字： ASML 光刻機 知識產(chǎn)權(quán)首先，英特爾宣布英特爾代工服務和英特爾投資將投入 10 億美元用于擴展英特爾代工服務的生態(tài)系統(tǒng)。很多錢將直接落在領(lǐng)先的 RISC-V 供應商之上，包括 Andes、Advantage 和 SiFive。這是為了支持這兩個...
關(guān)鍵字： 英特爾 生態(tài)系統(tǒng)
